Hitachi Ltd. Central Research Laboratory Kokubunji Tokyo 185-8601 Japan;
机译:垂直磁记录介质中分散和结构对高记录密度记录性能影响的模拟研究
机译:垂直磁记录介质中分散和结构对高记录密度记录性能影响的模拟研究
机译:热辅助磁记录和垂直磁记录的地域密度限制
机译:高密度垂直记录的实现
机译:扩展垂直记录介质中的记录密度。
机译:垂直磁记录—它的发展与实现—
机译:高密度垂直磁记录的PT底层垂直钡六偏发薄膜介质的生长