CNRS, IM2NP, Faculte des Sciences de Saint-Jerome, Case 142, 13397 Marseille, France;
Aix-Marseille Universite, IM2NP, Faculte des Sciences de Saint-Jerome, Case 142, 13397 Marseille, France;
Ecole Centrale de Lyon, 36 Av. Guy de Collongue, 69134 Ecully CEDEX, France;
Aix-Marseille Universite, IM2NP, Faculte des Sciences de Saint-Jerome, Case 142, 13397 Marseille, France;
Aix-Marseille Universite, IM2NP, Faculte des Sciences de Saint-Jerome, Case 142, 13397 Marseille, France;
Self-diffusion; Reactive Diffusion; Silicide;
机译:原位俄歇电子能谱研究纳米晶硅化物中的原子迁移:界面反应效应
机译:原位俄歇电子能谱研究界面反应对原子扩散的影响
机译:原子层沉积的原位俄歇电子能谱研究:钌ALD在Si-H,SiO2和HfO2表面上的生长引发和界面形成反应
机译:纳米晶体硅化物中的原子传输通过原位螺旋钻电子光谱研究:界面反应效应
机译:飞行时间正电子an灭诱导的俄歇电子能谱研究了真空退火下6H-碳化硅的表面改性。
机译:原子层生长机理的原子性质在GaAs(001)-4上沉积高κY2O3×6基于原位同步辐射光电子能谱
机译:欧格电子能谱,X射线光电子能谱和拉特福德反散射谱(热电池)研究的锂及其化合物的表面反应和表面分析。
机译:用改进的电子能谱和深度分析研究二氧化硫与改性440C的反应