Laser-Laboratorium-Goettingen e.V., Hans-Adolf-Krebs-Weg 1, D-37077 Goettingen, Germany;
KLA Tencor Corporation, 11 Technology Drive, Milpitas, CA 95035, U.S.A;
Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Albert-Einstein-Strasse 7, D-07745 Jena, Germany;
Laser-Laboratorium-Goettingen e.V., Hans-Adolf-Krebs-Weg 1, D-37077 Goettingen, Germany;
soft x-rays; extreme ultraviolet (EUV); multilayer mirrors; laser damage; wave front measurements and beam characterization;
机译:Mo / Si多层镜的EUV损伤阈值测量
机译:在单次损伤阈值下方长期自由电子激光曝光下EUV镜辐射损伤阻力的实验研究
机译:EUV激光辐照对Sc / Si多层反射镜的辐射损伤机理
机译:EUV损伤阈值的表征和Mo / Si多层镜的成像性能
机译:用于多层反射镜的EUV /软X射线区域中材料的光学常数。
机译:在单次损伤阈值以下的长期自由电子激光照射下EUV镜辐射损伤抵抗性的实验研究
机译:Mo / Si多层镜的EUV损伤阈值测量