Department of Material Chemistry, Graduate School of Engineering, Kyoto University, Sakyo-ku, Kyoto, 606-8501, Japan;
sputtering; x-ray diffraction; semiconductor; nonlinear optical properties; thin film; second-harmonic generation;
机译:CuCl纳米掺杂玻璃薄膜的制备和二阶非线性光学性质
机译:射频反应磁控溅射制备ZnO薄膜的晶粒生长行为,表面形貌演变,结构和光学性质
机译:射频磁控溅射制备SrBi_2Nb_2O_9薄膜的大非线性光学性质
机译:通过RF溅射制备的CuCl纳米晶体掺杂薄膜的结构和二阶非线性光学性能
机译:溶胶-凝胶法制备过渡金属氧化物薄膜的三阶非线性光学性质的研究
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:反应射频磁控溅射制备TiO2薄膜的晶体结构和光学性质
机译:通过mOCVD和RF溅射制备的srTiO(sub 3)(100)上异质外延pb(Zr(sub 0.35)Ti(sub 0.65))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)多层薄膜的结构和性质