JMAR Technologies Inc, Research Division, 3956 Sorrento Valley Blvd, San Diego, CA 92121;
laser-produced plasma; x-ray; EUV; lithography;
机译:用于极端紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体辐射辐射致氢等离子体中的电子密度和温度的时间分辨空间曲线
机译:极紫外光刻光源的激光产生锡等离子体中的带外辐射和等离子体参数的表征
机译:从激光产生的等离子体源射出的Sn离子碎片的角度和能量分布,其激光功率密度在适用于极紫外光刻的范围内
机译:用于纳米光刻的高功率激光产生的等离子体源
机译:Nd:YAG和CO2激光产生的锡等离子体的发射特性,可用于极端紫外光刻源的开发。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:前分辨率X射线诊断的前端等离子体2.时间和空间分辨光谱成像诊断激光产生的等离子体的诊断2.1激光产生的等离子体的成像诊断,具有通过图像采样技术获得的高空间和时间分辨率
机译:高级源开发和应用。激光产生的等离子体:具有高峰值亮度的紧凑型软X射线源。