Center for X-Ray Optics, Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, CA 94720;
extreme ultraviolet lithography; synchrotron radiation; microfield printing; EUV diffuser; decoherentizing illuminator;
机译:液晶点衍射干涉仪(LCPDI)与商用相移干涉仪的实验比较以及提高LCPDI精度的方法
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:ASET-HET EUV相移点衍射干涉仪的当前状态
机译:偏振相移点衍射干涉仪。
机译:用相移楔形反向剪切干涉仪完整表征超短光脉冲
机译:<标题>向EUV相移点衍射干扰仪添加静态打印能力 title>