Institute of Information Optical Engineering, Soochow University, Suzhou, China, 215006;
Jiangsu Province Key Laboratory of Modern Optical Technology, Soochow University, Suzhou, China, 215006;
phase mask; ion beam etching; reactive ion beam etching; diffraction efficiency;
机译:光纤光栅相位掩模的制作
机译:通过相位掩模技术在大型地区双包层纤维上的啁啾和倾斜光纤布拉格光栅的制造
机译:二氧化硅空心光纤中自组装周期聚合制备无掩模混合长周期光纤光栅
机译:光纤光栅相位掩模的制造
机译:掺锗二氧化硅纤维的光敏性,布拉格光栅的掩模制造及其在应变传感器中的应用。
机译:通过周期性地去除包层刻蚀的单模光纤的涂层来朝光纤传感器的发展制造长周期光栅
机译:多模As2S3光纤中1550nm处的Bragg光栅的干涉和相位掩膜方法刻写和表征