Department of Materials Science Engineering, Cornell University, Ithaca, NY 14853;
157-nm lithography; fluorinated polymers; hexafluoroisopropyl group; hemiacetal; chemical amplification;
机译:使用化学放大的157 nm抗蚀剂的硬掩模工艺
机译:化学放大的抗蚀剂聚合物在248、193和157 nm光刻中的溶解行为
机译:化学放大的抗蚀剂聚合物在248、193和157 nm光刻中的溶解行为
机译:聚(苯乙烯-丙烯酸酯)基化学放大抗蚀剂的去质子化机理
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:在钯催化下通过双脱羧形式的扩环过程获得具有三氟甲基甲醇部分的苯并稠合九元杂环烯烃
机译:使用化学放大的157-nm抗蚀剂的硬掩模工艺。