Faculty of Applied Sciences, Universiti Teknologi MARA, 40450 Shah Alam, Selangor, Malaysia;
Photoluminescence; porous silicon nanostructures;
机译:光电化学刻蚀制备的多孔硅的电化学阻抗谱分析:电流密度效应
机译:不同电流密度对光电化学刻蚀对多孔碳化硅光学性能的影响
机译:电流密度和刻蚀时间对p型多孔硅光致发光和能带隙的影响
机译:多孔硅纳米结构具有最佳电气化学散热度的多孔硅纳米结构的电致发光和光致发光性能
机译:芳香族分子淬灭多孔硅的光致发光,并用二甲基亚砜,芳基锂或烷基锂试剂对多孔硅进行表面衍生
机译:通过用铜置换多孔硅形成的纳米结构:从纳米颗粒到多孔膜
机译:蚀刻时间对光电化学阳极氧化对p型和n型多孔硅纳米结构表面结构性能的影响