MEMS实验专用电镀设备的设计及应用

摘要

本文介绍一种基于单片机系统的在MEMS实验室应用的电镀设备.该设备主要有两个部分组成:电镀槽和脉冲电镀电源.电镀槽部分控制器采用AT89C51,采用直流电机实现电镀过程中对电镀液进行搅拌,采用一线温度传感器DS18b20对电镀液温度进行测量,采用固体继电器来控制加热管对电镀液进行加热.通过键盘可以设定电机转速、电镀液温度、开启或停止搅拌等控制功能.电镀电源部分控制器采用资源丰富的ATmega128,直流电源部分采用了双闭环控制,波形产生桥路采用了大功率MOS管.本系统可以大大提高MEMS实验中电镀效率和电镀质量.