投射电容屏ITO电路检测的线阵CCD成像系统设计

摘要

为解决线阵CCD用于投射电容屏ITO(Indium tin oxide,氧化铟锡)电路检测时不易获取高对比度图像的难题,基于明场照明反射成像原理,设计并构建了一套基于最大叠加反射系数差值的同轴照明与成像系统.根据投射电容屏ITO材料与玻璃基板的光学特性及刻蚀电路的几何特征,分析了光源照射及成像方式;根据ITO电路的多层复合结构,分析了影响ITO膜和玻璃基板成像对比度的影响因素;在满足较高生产率的运动速度下,通过不同光照亮度时实验所获取系列图像的对比,确定了可获得高对比度ITO电路与玻璃基板图像的成像系统工作参数.实验结果表明:检测精度为10μm、ITO基板运动速度为130mm/s且光照亮度等级为190时,所获图像的灰度直方图具有显著双峰值,易于识别ITO电路缺陷。