UV-B增强下施硅对水稻根际土壤甲烷产生潜力的影响

摘要

通过田间模拟试验,研究了UV-B辐射增强下施用不同硅肥对水稻根际和非根际土壤甲烷(CH4)产生潜力影响.UV-B辐射设2个水平,即对照(A,自然光)和增强20％(E).硅肥设3个水平,即Si0(不施硅,SiO20kg/hm2)、Si1(硅酸钠,SiO2200kg/hm2)和Si2(钢渣硅肥,Si02200kg/hm2).结果表明,各处理水稻根际土甲烷产生潜力大于非根际土甲烷产生潜力.UV-B增强可提高根际和非根际土壤的甲烷产生潜力,施硅(Si1、Si2)可降低水稻根际土甲烷产生潜力,但对非根际土甲烷产生潜力的影响因生育期而异.在抽穗扬花期期扬花期,施硅(Si1、Si2)对非根际土甲烷产生没有明显抑制作用,Si1促进了非根际土甲烷产生;在灌浆完熟期,施硅(Si1、Si2)对根际和非根际土甲烷产生均有抑制作用.