考虑压力拱效应的低渗产水气藏产能研究

摘要

基于低渗气藏渗流理论、质量守恒理论和压力拱理论,建立了考虑应力敏感、压力拱效应和气水高速非达西效应的低渗气藏气水两相产能方程.该方程可以分析不同水气质量比、压力拱比和应力敏感系数条件下,地层含水饱和度的分布、低渗产水气藏流动动态特征和产能变化规律.研究发现:随着压力拱效应的增强,压力拱比不断增大,IPR曲线不断向右移动,气井的无阻流量增大,应力敏感对产能的影响逐渐降低;随着压力拱比的增大,含水饱和度随半径增大而增大的趋势变缓,压力拱效应的存在使井筒附近更大范围的储层得到有效的动用,且减弱了应力敏感储层含水饱和度在井筒附近的非均匀程度;水气质量比越大的低渗储层,气井的产量越小,且无阻流量随着水气质量比的增大而急剧减小;对于压力拱效应较弱的低渗储层,不仅要注意控水,同样也要注意控制压差,不能忽略应力敏感的影响,而对于压力拱效应较强的低渗储层,重点在于防水控水.