用于光敏成像体系的亲水性高分子

摘要

本文介绍了亲水性高分子在光敏成像领域的应用,特别是用于水溶性感光凸版,免化学显影平版及丝网印刷版的水溶性高分子及成像原理,提出了用于光敏成像体系的水性高分子设计原则：有良好的溶剂溶解性、好成膜性和版基粘合性、成像性、耐油墨侵蚀等条件原则；性能平衡原则；环保卫生原则；安全原则及成本控制原则。总之，高分子结构设计和合成应用是一门技术，也是一门艺术，需要深厚的科学素养和长期的专业积累。