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李新涛;
纳米图形;
机译:通过金属辅助化学刻蚀自组装的纳米结构金,可用于高深宽比的硅微结构
机译:微观结构对高深宽比结构铜膜力学性能的影响
机译:Co_2FeAl_(0.5)SI_(0.5)/银/ Co_2FeAl_(0.5)SI_(0.5)CPP-GMR元件的感应磁化反转具有以下结构
机译:高度可制造的FinFET,具有10nm以下的鳍宽和高深宽比,采用浸没式光刻技术制造
机译:使用六氟化硫/氧等离子体在硅中蚀刻高深宽比结构。
机译:改变高深宽比结构的表面形态的不同方法
机译:Li2Ru0.5Mn0.5O3中过渡金属化学,局部结构和全局结构的相关性研究了宽电压窗口
机译:用点变形技术制作宽钨板
机译:高深宽比微结构及其制造方法以及高深宽比微结构阵列及其制造方法
机译:具有高深宽比的纳米结构的形成方法以及使用该结构的纳米图案的形成方法
机译:高深宽比栅极结构形成
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