青铜环境界面上化学、电化学行为的研究

摘要

本文用模拟闭塞电池法(O.C.)对青铜在模拟环境介质0.028mol·L<'1->NaCl+0.01mol·L<'-1>Na<,2>SO<,4>+0.016mol·L<'-1>NaHCO<,3>中局部腐蚀孔内或裂纹内的化学变化进行了研究,通电32h后闭塞区内溶液的pH值由7.00降至5.03,与此同时Cl<'->和SO<,4><'2->向闭塞区内迁移,其浓集倍数分别是6.31和2.93;测定了闭塞区内外铜、锡、铅金属离子的浓度,据此计算出溶解因子f<,Sn/Cu>小于1,f<,Pb/Cu大于1,表明青铜中各元素选择性腐蚀的顺序为铅>铜>锡,腐蚀速度为铅>铜>锡;用XRD分析了腐蚀产物的组成,解释了青铜文物表面腐蚀产物的分层现象,即从里到外来CuCl,CuCl和Cu<,2>O,铜的二价化合物.