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纵向应力法制作双波长布喇格光栅

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介绍了一种用一个均匀相位模板制作双波长布喇格光栅的方法;对这种方法制作的双波长布喇格光栅进行了理论分析,用矩阵分析法,对其进行了数值模拟,采用了移动曝光技术,通过调节所加应力的大小、光栅长度及曝光次数可以控制两个布喇格波长的间隔和反射率;写制了一个双波长光栅,两个透射峰均为19.5dB,两个布喇格波长的间隔为0.78nm.

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来源
《第十一届全国基础光学与光物理学术讨论会》|2004年|98-101|共4页
会议地点井冈山
作者
姜莉; 张东生; 张伟刚; 开桂云; 董孝义;
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作者单位

中国物理学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类波导光学与集成光学;
关键词
导波光学; 布喇格光栅; 双波长布喇格光栅; 矩阵分析法;

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