改进的光催化法制备金属钯膜的气体渗透性能研究

摘要

本文在光催化沉积法(PCD)的基础上进行了改进。基本原理是在紫外光直接照射下，使TiO2 过渡层与Pd (II)液膜之间发生光催化反应。辅助SEM、EDS 表征方法对所制的钯膜分析表明,该方法制得的钯膜很薄，仅为0.4μm 左右；在612.5~704.5K 和0.05~0.12MPa 下进行气体渗透试验，氢气的渗透性与选择性分别为4.8×10-6 mol.m-2.s-1.Pa-1 和120。