首页> 中文会议>第八届全国新型炭材料学术研讨会 >内嵌金属富勒烯Y@C82的同步辐射XAFS研究

内嵌金属富勒烯Y@C82的同步辐射XAFS研究

摘要

内嵌金属富勒烯以其独特的电子结构与几何结构预示其在电子、光电子以及医疗领域有重大的应用前景而受到研究者格外的关注。本文测定和拟合在低温(25K)和室温(300K)下Y@C82的XAFS谱,可以得到Y@C82中的Y的最近邻和次近邻配位壳层的结构参数,还可以得知Y-C两个壳层的配位距离基本没有随温度变化,Y@C82的两个壳层的原子分布即使在低温下也存在比较大的无序。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号