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正电子颗粒跟踪技术及其在磨矿模拟中的应用

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介绍了正电子颗粒跟踪技术特点及其在磨矿模拟中的应用,重点阐述了该技术在球磨机、立式搅拌磨机、艾萨磨机等磨机研磨介质运动状态、功率需求计算等方面的应用现状,并对其在矿物加工领域的应用前景进行了分析.

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来源
《第七届全国选矿专业学术年会》|2014年|258-261|共4页
会议地点银川
作者
肖骁; 张国旺; 黄礼龙; 石立; 龙渊;
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作者单位

中国金属学会;

中国工程院科技合作委员会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类选前准备作业;
关键词
磨矿模拟; 研磨介质; 运动状态; 正电子颗粒跟踪技术;

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