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光照不均匀的干涉条纹校正新方法

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光照不均匀的干涉条纹校正是干涉条纹图像处理中的一个难题.理论分析了产生照度不均匀的原因,提出了采用同态滤波技术进行干涉条纹校正.通过计算机模拟验证,该方法不仅编程简单,而且校正效果好,是一种有效的干涉条纹预处理方法.

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来源
《2008中国兵工光学与光电子学学术交流会》|2008年|65-66|共2页
会议地点宜昌
作者
周战荣; 赵晓铭; 刘皓淳; 张瑜; 郑立林;
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作者单位

中国兵工学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TP391.41;
关键词
干涉条纹; 光照不均匀; 同态滤波; 图像处理; 条纹校正;
入库时间 2022-08-17 11:00:21

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