真空环境中MOS2/Au薄膜摩擦过程分析

摘要

文章采用磁控溅射的方法在9Crl8基体上制备了1μm厚的MoS2/Au薄膜。测试了真空环境中MoS2/Au薄膜的磨损寿命，通过纳米划痕和扫描电子显微镜观察了磁控溅射MoS2/Au薄膜的摩擦过程。结果表明，在真空环境中，当载荷为10 N、线速度为1.6m/s时，磁控溅射MoS2/Au薄膜的寿命超过60万转。稳定润滑阶段，磁控溅射MoS2/Au薄膜的摩擦系数为0.03。与稳定润滑阶段相比，磁控溅射MoS2/Au薄膜在摩擦过程中的跑和阶段的磨损更严重。