高灵敏度低频AFAM成像技术

摘要

原子力声显微镜(AFAM)的试样激振模式是在原子力显微镜(AFM)的基础上,在试样底部施加声激励而实现的新型材料表征技术,能够同时地原位地对材料的亚表面结构及弹性性质进行检测。试样振动频率的选取对成像结果影响很大。本文基于扫描探针声显微镜的试样振动模式对SiO2基底上激光损伤的HfO2薄膜进行检测,并对比不同频率下的成像结果。相比于表面像,试样振动模式的声像能够反映清洗过程中抛光粒子在基底表面留下的划痕,以及薄膜受损区域周围存在的残余应力。同时低频下的成像效果更理想,对亚表面结构和弹性性质的反映更为显著。