真空热压技术制备LiH薄膜

摘要

氢化锂(LiH)是重要的热核材料。其具有密度低、原子序数低等性质，可作为低能量X光散射及输运材料、轻质中子屏蔽或减速剂等。本文采用真空热压技术制备LiH薄膜。真空热压技术是在高真空环境下，同时对样品进行加热和加压，获得厚度小于100μm的氢化锂薄膜。