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退火处理

退火处理的相关文献在1978年到2022年内共计855篇,主要集中在金属学与金属工艺、无线电电子学、电信技术、电工技术 等领域,其中期刊论文431篇、会议论文189篇、专利文献1091841篇;相关期刊242种,包括材料导报、材料工程、材料科学与工程学报等; 相关会议159种,包括2016国产高性能电工钢生产技术与应用研讨会、第十届中国钢铁年会暨第六届宝钢学术年会、第13届中国光伏大会等;退火处理的相关文献由2779位作者贡献,包括郑石焕、吴玉程、G·赫尔策尔等。

退火处理—发文量

期刊论文>

论文:431 占比:0.04%

会议论文>

论文:189 占比:0.02%

专利文献>

论文:1091841 占比:99.94%

总计:1092461篇

退火处理—发文趋势图

退火处理

-研究学者

  • 郑石焕
  • 吴玉程
  • G·赫尔策尔
  • 刘年钦
  • 吕珺
  • 郑治祥
  • 陈立新
  • 雷永泉
  • 刘刚
  • 姚熹
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  • 会议论文
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排序:

年份

    • 尹传磊; 刘佳鑫; 赵洋
    • 摘要: 采用JGP-300型超高真空磁控溅射镀膜设备在蓝宝石衬底上制备了Ga2 O3薄膜,研究了溅射功率和退火工艺对薄膜晶体结构、表面形貌和光学特性的影响.研究结果表明:当溅射功率为90 W时,Ga2 O3薄膜的(-402)衍射峰最强,薄膜结晶质量最好.退火后Ga2 O3薄膜的结晶度均有所加强.随着溅射功率的增加,Ga2 O3薄膜变得均匀致密,但溅射功率过高反而影响成膜质量.Ga2 O3薄膜吸收边在250 nm附近,在Ga2 O3可见光区域透过率可达85%以上,且在450~500 nm处接近100%.退火处理可以进一步提高薄膜的透过率.Ga2 O3薄膜的禁带宽度随溅射功率的提高而减小,分布在4.8~5.0 eV,且退火后禁带宽度整体减小.这表明退火处理使得大部分Ga2 O3转化为最稳定的 β相.
    • 刘勇; 朱景川; 来忠红
    • 摘要: 为了揭示退火处理对CuCrFeMnTiAl高熵合金组织和力学性能的影响,本文利用金相、SEM、XRD对退火组织进行了表征,利用压缩试验测试了退火后的力学性能。结果表明,铸态CuCrFeMnTiAl高熵合金在590°C退火后,除保留铸态密排六方(HCP)和面心立方(FCC)相外,还有体心立方(BCC)结构固溶体生成;退火温度升至955°C时,体心立方(BCC)结构又消失。铸态和退火态均为典型枝晶组织,随着退火温度的不同,除呈现树枝状外,还有圆棒状和近球状组织;随退火温度增高,枝晶尺寸有所增加。随着退火温度的升高,合金的断裂强度先升高后降低,750°C退火后可以达到1474.55MPa;断裂应变也随退火温度的升高先升高后降低,在955°C退火时达到最大值8.2%。研究结果说明,采用热处理得到适当的复相组织可以有效地提高高熵合金的强度、塑性和韧性。
    • 詹玮婷; 梁旭; 韩露; 张璐; 张巍; 孙光奥; 倪红卫
    • 摘要: 采用碱化与退火方法在铜网表面制备多晶型氧化铜纳米线结构,利用SEM、XRD、XPS、HR-TEM和电化学测试等手段,研究了碱化处理时间和退火工艺对氧化铜纳米线结构形貌、物相组成和光电化学性能的影响,并考察了所制氧化铜纳米线电极对低浓度乙醇溶液的检测能力。结果表明,碱化10 min并且经过退火处理(500°C×2 h)后,所制材料具有最佳的光电化学性能,其中退火处理促进了非晶状态直线型Cu(OH)_(2)纳米线向多晶弯曲型CuO纳米线转变。以最佳工艺制得的氧化铜纳米线结构作为无酶乙醇传感电极对浓度在20~100μmol·L^(-1)范围的乙醇溶液进行检测,电极灵敏度为3.05μA·cm^(-2)/(μmol·L^(-1)),检测限为17.34μmol/L,该材料表现出较好的乙醇检测能力。
    • 王权; 吴长军; 徐雪薇; 彭浩平; 刘亚; 苏旭平
    • 摘要: 通过电弧熔炼法制备了一系列fcc型Co_(x)CrFeMnNi_(2-x)(x=0.25~1.5)高熵合金,并于600~1000°C真空退火120~360 h,进而研究了Co和Ni含量、退火温度及时间对合金显微组织和耐蚀性的影响。结果表明,这些铸态合金均由fcc单相组成。600~1000°C退火后,除x=1.5的合金中会形成少量的hcp相外,其他合金没有相变。铸态Co_(x)CrFeMnNi_(2-x)合金主要由粗大的树枝晶组成,合金的耐蚀性随Co含量的增加而逐渐降低。600~1000°C退火会明显改变合金的金相显微组织。600°C退火后,由于晶界迁移截断枝晶主干,合金组织得到了细化;同时,由于粗大的晶界增多,合金耐蚀性明显降低。800°C退火120 h后,合金中形成了曲折的等轴晶界,但晶内仍有明显的网状编织的亚晶;此时,合金的耐蚀性得到大幅提升。进一步延长退火时间或升高退火温度可使晶界变得平滑细小,晶内的编织网状亚晶逐渐消失,合金的耐蚀性也将进一步提升。这些结果将为fcc型高熵合金的成分设计及组织调控提供依据。
    • 张长江; 姜爔; 吕智丹; 冯弘; 张树志; 许瑛; Muhammad Dilawer HAYAT; 曹鹏
    • 摘要: 利用光学显微镜、扫描电子显微镜和透射电子显微镜研究新型近βTi-4Al-1Sn-2Zr-5Mo-8V-2.5Cr(质量分数,%)合金经α+β区退火处理(ST)后进行单级时效(SA)或双级时效(DA)对显微组织演变和力学性能的影响。结果表明,与SA相比,合金经过DA处理后析出的次生α相更加细小,其主要机制为300°C预时效形成的纳米尺度中间相ω颗粒可辅助次生α相形核,从而细化次生α相尺寸。另外,在一定的ST温度下,经DA处理后的合金相比于SA处理的合金能获得更高的强度。合金经ST(750°C)+DA后表现出优良的强度和塑性匹配,抗拉强度为1450 MPa,伸长率为3.87%,这主要归因于DA析出的纳米级次生α相的强化作用。可见,双级时效对新型近β钛合金是一种可行的热处理工艺。
    • 郑婉婷; 王子仪; 阚前华; 康国政
    • 摘要: 对未退火硬态紫铜和退火处理得到的软态紫铜进行室温应变控制对称循环和应力控制非对称循环变形试验,研究了退火处理对紫铜显微组织和棘轮行为的影响。结果表明:退火处理会增大紫铜的晶粒尺寸,影响紫铜的循环软/硬化特性;两种状态紫铜均表现出明显的棘轮行为,且其棘轮行为依赖于外加应力水平;应力幅的增大会显著影响硬态紫铜棘轮演化第III阶段的棘轮应变速率,对软态紫铜第II阶段的棘轮应变速率影响较小;平均应力越大,硬态紫铜的棘轮演化从第II阶段进入第III阶段的速度越快,但平均应力对软态紫铜第II阶段棘轮应变速率的影响不显著。
    • 樊江磊; 王宁格; 路全彬; 裴夤崟; 李莹; 王艳; 曹阳; 王永彪; 刘建秀
    • 摘要: 研究了500°C条件下退火时间对(轧制态)BAg30CuZnSn钎料合金的组织和力学性能的影响。通过对钎料合金进行退火处理,组织观察、力学性能测试等,研究了退火时间对钎料的微观合金组织和力学性能的影响规律。结果表明:随着退火时间的延长,BAg30CuZnSn钎料合金的Cu基固溶体沿着轧制方向由长条状转变为片状且逐渐变得粗大,同时析出网状的Cu-Ag共晶组织,相边界逐渐变得清晰和完整;随着退火时间的延长,钎料合金的显微硬度值(HV_(0.05))呈现出逐渐降低,且在未退火处理时取得最大值120.85,在退火时间为100 h时取得最小值84.5。
    • 郑思龙; 祝柏林; 易昌鸿; 王崇杰; 吴隽
    • 摘要: 室温下通过磁控溅射技术制备了SnO_(2)/Ag/SnO_(2)(SAS)、SnO_(2)/Ag/NiCr/SnO_(2)(SANS)和SnO_(2)/NiCr/Ag/NiCr/SnO_(2)(SNANS)三类多层膜。采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、霍尔效应测量仪和紫外-可见分光光度计研究了大气和真空退火温度与薄膜结构、形貌和透明导电性能的关系。结果表明,随着退火温度升高,薄膜的结晶程度及透明导电性能先增强后下降,薄膜的粗糙度先下降后上升。插入NiCr合金层提高了薄膜的热稳定性,且在Ag层两侧插入厚的NiCr合金层时薄膜热稳定性最优。而薄膜在真空环境下比在大气环境下的热稳定性更优。450°C真空退火后,SNANS(1 nm NiCr)薄膜平均透光率(400~800 nm)为90.31%,电阻率为8.21×10^(-5)Ω·cm,品质因子为3.87×10^(-2)Ω^(-1)。
    • 吴旭; 陈超; 高祥达
    • 摘要: 通过采用不同成分的溶剂浸泡试验以及气候循环试验,对汽车PC开关应力进行表征,追溯了导致现生产PC开关失效的应力来源,验证了不同退火工艺对改善PC开关应力的效果。结果表明丙酮和CCl4对PC开关的腐蚀性较强,且由于安全原因不适合作为PC开关应力表征的溶剂。乙酸由于诱导PC开关应力释放能力很弱,也不能作为表征PC开关应力大小的有效检测手段。乙酸乙酯与正丁醇(2:1)混合溶剂由于诱导PC开关应力释放能力适中,溶剂低毒而且较易获得,适宜作为PC开关应力的表征溶剂。气候循环交变对诱导开关类零件的应力释放效果甚微,不适合应力表征。另外,研究表明对装配前的开关分零件进行分别退火无法有效减小装配后的开关总应力,而对装配后的PC开关采用90°C,1 h的退火处理可以有效改善PC开关的应力开裂问题。
    • 尹传磊; 刘佳鑫; 赵洋
    • 摘要: 采用JGP-300型超高真空磁控溅射镀膜设备在蓝宝石衬底上制备了Ga_(2)O_(3)薄膜,研究了溅射功率和退火工艺对薄膜晶体结构、表面形貌和光学特性的影响。研究结果表明:当溅射功率为90 W时,Ga_(2)O_(3)薄膜的(-402)衍射峰最强,薄膜结晶质量最好。退火后Ga_(2)O_(3)薄膜的结晶度均有所加强。随着溅射功率的增加,Ga_(2)O_(3)薄膜变得均匀致密,但溅射功率过高反而影响成膜质量。Ga_(2)O_(3)薄膜吸收边在250 nm附近,在Ga_(2)O_(3)可见光区域透过率可达85%以上,且在450~500 nm处接近100%。退火处理可以进一步提高薄膜的透过率。Ga_(2)O_(3)薄膜的禁带宽度随溅射功率的提高而减小,分布在4.8~5.0 eV,且退火后禁带宽度整体减小。这表明退火处理使得大部分Ga_(2)O_(3)转化为最稳定的β相。
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