固体电子学
固体电子学的相关文献在1987年到2021年内共计118篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、物理学、自动化技术、计算机技术
等领域,其中期刊论文118篇、专利文献756118篇;相关期刊30种,包括泉州师范学院学报、甘肃科学学报、苏南科技开发等;
固体电子学的相关文献由12位作者贡献,包括林金庭、云龙、刘明等。
固体电子学—发文量
专利文献>
论文:756118篇
占比:99.98%
总计:756236篇
固体电子学
-研究学者
- 林金庭
- 云龙
- 刘明
- 周益春
- 清风
- 石磊
- 石秉学
- 科发
- 郑昱
- 郝跃
- 陈旭华
- 马小荣
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摘要:
何茗教授,1975年7月生,1999年获电子科技大学电子材料与元器件专业学士学位,2004年获电子科技大学微电子与固体电子学专业硕士学位,2011年获电子科技大学微电子与固体电子学专业博士学位。2011年11月进入电子科技大学博士后流动站进修,2014年4月出站。目前为电子工程学院教授。担任《Physics D》《Solid State Sciences》《Materials Science and Engineering B》等国际学术期刊审稿人。
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石磊;
陈旭华
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摘要:
研究了垂直双扩散金属氧化物半导体(VDMOS)功率器件在高温和直流应力下的退化和失效过程及机理.测量了栅极阈值电压[UGS(th)]、栅极-源极漏电流(IGSS)、静态漏极-源极通态电阻[RDS(on)]、漏极-源极击穿电压(UDSS),发现RDS(on)在应力时间672~864 h范围内开始变大直至测试结束,其他各项电学参数总体保持稳定.测量了器件结到热沉的热阻(RTH),RTH保持稳定.研究表明器件的栅极、漏极、器件内部结构和焊料、管壳基本不受应力影响.对烧毁的器件进行微区分析,扫描电镜图片表明损坏区域在源极上表层和源极引线位置,和电学参数、RTH值的分析相一致.RDS(on)的增加是由包括引线在内的源极封装和源极欧姆接触电阻增大导致,超过阈值时将导致器件烧毁.研究结果有助于提高恶劣工况下的VDMOS功率器件可靠性.
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郑昱
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摘要:
王展,微电子与固体电子学硕士,专注于集成产品研发及营销传播平台构建,具有近20年的营销及管理实战经验。他曾任瑞同科技传媒CEO、华人知名管理咨询专家余世维特别研究助理、SEMI国际半导体设备与材料协会中国区战略市场总监、复旦微电子集团总经理助理等职务,
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摘要:
本刊系南京电子器件研究所主办的全国性学术期刊(双月刊)。主要刊登固体物理、宽禁带半导体、射频/微波器件和电路、纳米技术、MEMS、固体光电和电光转换器件、OLED和各种固体电子器件及其应用等文章。设有'学术论文'、'研究报告'、'研究简讯'、'会议报道'等栏目。介绍科研创新成果,探讨不同学术见解,交流工作经验,报道研究动态。
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科发
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摘要:
正英国罗彻斯特大学的研究者们发现原子厚度半导体的缺陷可以产生发光的量子点。这种量子点是单一光子的来源,这种现象对于量子光子学和固体电子学的联合研究十分有益——就是所谓的集成光子学。在《Nature Nanotechnology》发表的一篇文章中,罗彻斯特大学的研究者发现可以将二硒化钨注入原子厚度的半导体内,作为固态量子点的生长平台。他们表示产生量子点的缺陷不会抑制半导体的电学或光学特性,并且可以外加电场或磁场来控制这些缺陷。在原子厚度的二硒化钨中生成量子点比在传统材料如砷化铟中生成量子点要容易许多,这是一个显著的优势。"我们采用墨晶,并一层一层的进行剥