公开/公告号CN114136340A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-04
原文格式PDF
申请/专利权人 重庆华渝电气集团有限公司;
申请/专利号CN202111437812.9
发明设计人 王福亮;
申请日2021-11-29
分类号G01C25/00(20060101);G01C21/16(20060101);
代理机构50212 重庆博凯知识产权代理有限公司;
代理人刘桢
地址 401120 重庆市渝北区龙山路68号
入库时间 2023-06-19 14:25:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-04
公开
发明专利申请公布
机译: 形成对准层图案的方法和一种光学叠片制造方法,其在对准层图案形成过程之后,不会消除对准层图案和基底膜的损害而具有能够消除面膜的能力。
机译: 对准标记和使用该对准标记的光刻方法,以消除工艺偏差误差
机译: 对准标记和使用该对准标记的光刻方法,以消除工艺偏差误差