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Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.
Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.
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1.
Microstructural and photoluminescence studies on europtium doped yttrium oxide films synthesized by metallorganic vapor deposition
机译:
金属有机气相沉积合成euro掺杂氧化钇薄膜的微观结构和光致发光研究
作者:
G.A.Hirata J.cKittrick
;
J.Yi
;
S.G.Pattillo
;
K.V.Salazar
;
M.Trkula
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
2.
Colosssal magnetoresistive thin films of (La_(1-x)Rp_x)_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3 prepared by aerosol MOCVD
机译:
气溶胶MOCVD制备的(La_(1-x)Rp_x)_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3的巨磁致电阻薄膜
作者:
O.Yu.Gorbenko
;
A.A.Bosak
;
A.R.Kaul
;
N.a.Babushkina
;
L.M.Belova
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
3.
Deposition of Ti(C,N) thick films by ILPCVD starting from tdmat
机译:
从tdmat开始通过ILPCVD沉积Ti(C,N)厚膜
作者:
S.GIlles
;
N.Bourhla
;
J.P.Senateur
;
R.Madar
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
4.
Electrodeposited CuInSe_2 thin film junctions
机译:
电沉积CuInSe_2薄膜结
作者:
R.P.Raffaelle
;
J.G.Mantovani
;
S.G.Bailey
;
A.F.Hepp
;
E.M.Gordon
;
R.Haraway
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
5.
Effects of raction conditions on deposition of ferrites from alkaline metal hydroxide gels
机译:
反应条件对碱金属氢氧化物凝胶中铁素体沉积的影响
作者:
Karl F.Schoch
;
Theodore R.Vasilow
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
6.
Four revolutions in diamond synthesis: the vidication of edisonian chemistry
机译:
钻石合成的四次革命:爱迪生化学的辩护
作者:
Rustum Roy
;
Materials Research Labroatory
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
7.
Growth of highly transparent nano-crystalline diamond films by microwave CVD
机译:
微波CVD生长高透明纳米晶金刚石薄膜
作者:
D.M.Bhusari
;
K.H.Chen
;
J.R.Yang
;
S.T.Lin
;
T.Y.Wang
;
L.C.Chen
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
8.
Investigation of low molecular weight carbosilanes as potential single-source precursors to silicon carbide
机译:
低分子量碳硅烷作为潜在的碳化硅单源前体的研究
作者:
M.A.Lienhard
;
L.V.Interrante
;
D.J.larkin
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
9.
Formation of transparent SiO_2 thin film at room temperature with excimer lamp irradiation
机译:
准分子灯辐照在室温下形成透明的SiO_2薄膜
作者:
T.Okamoto
;
H.Iizuka
;
S.Ito
;
M.Murahara
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
10.
Preparation of boron nitride thin films by MOCVD
机译:
MOCVD制备氮化硼薄膜
作者:
Sang-yeol Lee
;
Yong-Gi Jin
;
Young-Woo nam
;
Joong kee Lee
;
Dalkeun Ark
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
11.
Precursors for the chemical vapor deposition of titanium nitride and titanium aluminum nitride films
机译:
用于化学气相沉积氮化钛和氮化铝钛薄膜的前体
作者:
Charles H.Winter
;
Peggy J.Mckarns
;
Joseph T.Scheper
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
12.
Photochemical pattern etching of single-crystalline 3C-SiC
机译:
单晶3C-SiC的光化学图案刻蚀
作者:
T.Mori
;
K.Hatao
;
M.Murahara
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
13.
PECVD of amorphous silicon carbide from trimethylsilane
机译:
三甲基硅烷中无定形碳化硅的PECVD
作者:
J.T.Kelliher
;
M.Massuda
;
P.A.DiFonzo
;
T.R.Neal
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
14.
A comparison of ferroelectric thin films prepared by sol-gel, metal-organic deosition and photochemical methods
机译:
溶胶-凝胶法,金属有机分解法和光化学法制备铁电薄膜的比较
作者:
Y.Shi
;
S.L.Blair
;
I.Yaroslavsky
;
R.H.Hill
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
15.
Nanoporous silica for low kappa dielectrics
机译:
用于低κ电介质的纳米多孔二氧化硅
作者:
Teresa Ramos
;
Steve Wallace
;
Douglas M.Smith
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
16.
Morphology and electron emission properties of nanocrystalline CVD diamond thin films
机译:
纳米晶CVD金刚石薄膜的形貌和电子发射性能
作者:
Alan R.Krauss
;
Dieter M.Gruen
;
Daniel Zhou
;
Thomas G.McCauley
;
Lu Chang Qin
;
Timothy Corrigan
;
Orlando auciello
;
R.P.Hochang
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
17.
Investigation on the growth mechanism of zinc oxide film perpared by electrochemical method
机译:
电化学法制备氧化锌薄膜的生长机理研究
作者:
Jaeyoung Lee
;
Yongsug Tak
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
18.
Sol-gel derived ferroelectric YMnO_3 films
机译:
溶胶凝胶衍生的铁电YMnO_3膜
作者:
G.Teowee
;
K.C.McCarthy
;
F.SMcCarthy
;
B.H.Dietz
;
D.G.Davis
;
D.R.Uhlmann
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
19.
The spary deposition of transition metal nitride thin films using alcohol based precursor solutions
机译:
使用醇基前驱体溶液的熔敷过渡金属氮化物薄膜
作者:
K.S.Weil
;
P.N.Kumta
会议名称:
《》
|
1997年
20.
Thick films of Pb(Mg, Nb)TiO by aerosol combustion
机译:
气溶胶燃烧法制得的Pb(Mg,Nb)TiO厚膜
作者:
A.C.Greenwald
;
A.K.Ussamul
;
T.F.Morse
;
C.H.Wei
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
21.
MOCVD of field emission phosphors using a liquid delivery system
机译:
使用液体输送系统的场发射磷光体的MOCVD
作者:
T.S.Moss
;
B.F.Espinoza
;
K.V.Salazar
;
R.C.Dye
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
22.
Temperature-dependent studies of a-SiC:H growth by remote plasma CVD using methylsilanes
机译:
使用甲基硅烷的远程等离子体CVD对a-SiC:H生长的温度依赖性研究
作者:
Moon-Sook Lee
;
Pratik Lal
;
Stacey F.Bent
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
23.
Kinetics of reactions relevant to the chemical vapor deposition of indium compounds
机译:
与铟化合物化学气相沉积有关的反应动力学
作者:
M.D.Allendorf
;
A.H.McDaniel
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
24.
Low pressure CVD growth of Al_xTi_(1-x)N films with tetrakis-(dimethylamido)titanium (TDMAT) and dimethyl aluminum hydride (DMAH) precursors
机译:
含四(二甲基氨基)钛(TDMAT)和二甲基氢化铝(DMAH)前驱体的Al_xTi_(1-x)N薄膜的低压CVD生长
作者:
Y.-M.SUn
;
J.Endle
;
J.G.Ekerdt
;
N.M.Russell
;
M.DHealy
;
J.M.White
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
25.
Materials chemistry and bulk crystal growth of group III nitrides in supercritical ammonia
机译:
超临界氨中III族氮化物的材料化学和块状晶体生长
作者:
Joseph W.Kolis
;
Steven Wilcenski
;
Robert A.Laudie
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
26.
Automoptive applications of materials prepared by ceramic precursor and sol-gel routes
机译:
通过陶瓷前体和溶胶-凝胶路线制备的材料的自动应用
作者:
C.K.Narula
;
A.Varshney
;
M.P.Everson
;
P.Schmitz
;
L.F.Allard
;
A.Gandopadhyay
;
T.Suren Lewkbandara
;
C.H.Winter
;
P.Czubarow
;
D.Seyferth
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
27.
Chemical vapor deposition of ruthenium dioxide thin films from bis(2, 4-dimethylpentadienyl)ruthenium
机译:
用双(2,4-二甲基戊二烯基)钌化学气相沉积二氧化钌薄膜
作者:
Lamartine Meda
;
Richard C.Breitkopf
;
Terry E.Haas
;
Rien U.Kirss
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
28.
Sol-gel synthesis of epitaxial films of (Sr, Ba)Bi_2(Nb,Ta)_2O_9 and Bi_4Ti_3O_(12) on 100 SrTiO_3
机译:
100 SrTiO_3上的(Sr,Ba)Bi_2(Nb,Ta)_2O_9和Bi_4Ti_3O_(12)外延膜的溶胶凝胶合成
作者:
Jonathan S.Morrell
;
ziling B.Xue
;
Eliot D.SPecht
;
David B.Beach
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
29.
Sol-gel synthesis of rare earth aluminate films as buffer layers for high T_c superconducting films
机译:
溶胶-凝胶法合成稀土铝酸盐薄膜作为高T_c超导薄膜的缓冲层
作者:
David B.Beach
;
Catherine E.Vallet
;
Mariappan Paranthaman
;
Eliot D.SPecht
;
Jonathan S.Morrell
;
Ziling B.Xue
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
30.
Removal of titanium oxide grown on titanium nitride and reduction of via contact resistance using a modern plasma asher
机译:
使用现代等离子灰化机去除生长在氮化钛上的氧化钛并降低通孔接触电阻
作者:
Mohamed Boumerzoug
;
Han xu
;
Richard Bersin
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
31.
Room temperature phase-selective synthesis of metastable lead chromium oxides
机译:
亚稳态铅铬氧化物的室温相选择合成
作者:
Kenneth M.Doxsee
;
Meehae Jang
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
32.
Silicon nitride films deposited by atmospheric pressure chemical vapor deposition
机译:
通过大气压化学气相沉积法沉积的氮化硅膜
作者:
Xian Lin
;
Denis Endisch
;
Xiaomeng Chen
;
alain Kaloyeros
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
33.
Microstructures in thin BaTiO_3 films by hydrothemal method
机译:
水热法制备BaTiO3薄膜的微观结构
作者:
T.Hoffmann
;
V.M.Fuenzalida
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
34.
Composite films of nickel/silicon carbide
机译:
镍/碳化硅复合膜
作者:
Maria Hepel
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
35.
Boron nitride materials for tribological and high temperature high power devices
机译:
摩擦和高温高功率器件的氮化硼材料
作者:
N.Badi
;
A.Tempez
;
D.Starikov
;
N.Medeolci
;
A.Bensaoula
;
J.Kulk
;
S.M.Koimentov
;
S.V.Garnov
;
V.P.Ageev
;
M.V.Ugarov
;
S.Lee
;
S.S.Perry
;
K.Waters
;
A.Shultz
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
36.
chemical etching of diamond revisited: past basic research as guide to new processing technologies
机译:
重新审视钻石的化学蚀刻:过去的基础研究作为新加工技术的指南
作者:
K.A.Cherian
;
J.Litster
;
V.Rudolph
;
E.T.White
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
37.
Contrl of growth dynamics by molecular design in the MOCVD of electronic ceramics
机译:
在电子陶瓷的MOCVD中通过分子设计控制生长动力学
作者:
A.C.Jones
;
T.J.Leedham
;
P.J.Wright
;
M.J.Crosbiep
;
D.J.Willams
;
P.A.Lane
;
P.OBrien
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
38.
Effect of precursors and s5tacking structures on crystallization of multi-layered lead zirconate titanate thin films by sol-gel method
机译:
溶胶-凝胶法前驱体和固结结构对多层锆钛酸铅钛酸酯薄膜结晶的影响
作者:
H.Suzuki
;
Y.Kondo
;
S.Kaneko
;
T.Tsutsumi
;
ST.Miura
;
T.Hayashii
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
39.
Epitaxial ZnO piezoelectric films for RF filters
机译:
用于射频滤波器的外延ZnO压电薄膜
作者:
Nuri W.Emanetoglu
;
Yicheng Lu
;
Chandrasekhar Gorla
;
Ying Liu
;
Shaohualiang
;
William Mayo
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
40.
Low-temperature, solution-based routes to nanocrystalline InS powders and thin films
机译:
低温,基于溶液的方法制备纳米晶InS粉末和薄膜
作者:
Jennifer A.Hollingsworth
;
William E.Buhro
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
41.
Precursors for vapor deposition of blue phosphors for electroluminescent flat panel displays
机译:
用于电致发光平板显示器的蓝色磷光体气相沉积的前体
作者:
William S.Rees
;
Oliver Just
;
Henry A.Luten
;
David J.otway
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
42.
Novel antimony precursors for low-temperature CVD of antimonide thin films
机译:
用于锑薄膜低温CVD的新型锑前体
作者:
Michael A.Todd
;
Gautam Bhandari
;
T.H.Baum
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
43.
One and two color photorefractive processes in sputtered WO_3 films
机译:
溅射WO_3膜的一色和二色光折变工艺
作者:
Rebecca Bussjager
;
Joseph M.Osman
;
J.Chaiken
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
44.
A surface raman and scanning tunneleing microscopy study of the s patial distribution of corner-sharing and edge-sharing octahedra on thermally oxidized tungsten
机译:
表面拉曼和扫描隧道显微镜研究热氧化钨上角共享和边缘共享八面体的空间分布
作者:
Matthew J.Cote
;
Corey Radloff
;
Joseph M.Osman
;
Rebecca Bussjager
;
R.Marthin VIllarica
;
Fqzio Nash J.Chaiken
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
45.
New magnesium precursors for doping semiconductor films
机译:
用于掺杂半导体膜的新型镁前体
作者:
Charles H.Winter
;
Jennifer L.Sebestl
;
Mary Jane Heeg
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
46.
New liquid precursors for chemical vapor deposition
机译:
用于化学气相沉积的新型液体前体
作者:
Roy G.Gordon
;
Feng Chen
;
Nicholas J.Diceglie
;
amos Kenigsberg
;
Xinye Liu
;
Daniel J.Teff
;
John Thornton
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
47.
Epitaxial ferroelectric oxides for electro-optic and non-linear optical applications
机译:
用于电光和非线性光学应用的外延铁电氧化物
作者:
B.W.Wessels
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
48.
Structural characterization of a series of new ternary eta -nitride compounds
机译:
一系列新型三元氮化物化合物的结构表征
作者:
K.S.Weil
;
P.N.Kumta
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
49.
Solution processing of YBa_2Cu_3O_(7-x) thin films
机译:
YBa_2Cu_3O_(7-x)薄膜的固溶处理
作者:
A.Singhal
;
M.Paranthaman
;
E.D.Spech
;
R.D.Hunt
;
D.B.Beach
;
P.M.Martin
;
D.F.lee
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
50.
Surface characterization of calcuium-stabilized zirconia film by x-ray photoelectron spectroscopy
机译:
钙稳定氧化锆薄膜的X射线光电子能谱表征
作者:
E.O.Bensadon
;
P.A.P.Nascente
;
L.O.S.Bulhoes
;
E.C.Pereira
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
51.
Synthesis and electro-optical properties of potassium titanyl phosphate thin films by sol-gel method
机译:
溶胶-凝胶法合成磷酸钛氧钾钾薄膜及其电光性能
作者:
Jianping Zhang
;
Burtrand I.Lee
;
Feiling Wang
;
Melvin
;
A.Leitheiser
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
52.
Synthesis and photoresponse of rare earth doped phosphosilicates
机译:
稀土掺杂磷硅酸盐的合成与光响应
作者:
Z.Cao
;
B.I.Lee
;
W.D.Samuels
;
G.J.Exarhos
;
L.Wang
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
53.
Low temperature remote plasma assisted jet vapor deposition of silicon nitride
机译:
氮化硅的低温远程等离子体辅助喷射气相沉积
作者:
J.Veteran
;
C.Hobbs
;
R.Hegde
;
P.Tobin
;
V.Wang
;
H.Tseng
;
G.Kenig
;
M.Hartig
;
T.Tamagawa
;
RoDoran
;
P.Makowicz
;
J.Schmitt
;
B.Halpern
;
J.z.Zhang
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
54.
Low temperature chemical vapor deposition of titanium dioxide thin films using teranitratititanium (IV)
机译:
使用四苯三钛(IV)的低温化学气相沉积二氧化钛薄膜
作者:
D.C.Gilmer
;
W.L.Dladfelter
;
D.G.Colombo
;
C.J.Taylorp J.Roberts
;
S.a.Campberts
;
S.A.Campbell
;
H.-S.Kim
;
G.D.Wilk
;
Ma.Gribelyuk
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
55.
Metal-organic chemical vapor deposition routes to films of transparent concduction oxides
机译:
金属有机化学气相沉积路线到透明导电氧化物薄膜
作者:
A.Wang
;
S.C.Cheng
;
J.A.Belot
;
R.J.Mcneely
;
J.C.heng
;
B.Marcores
;
T.J.Marks
;
J.Y.Dai
;
R.P.H.Chang
;
J.L.Schindler
;
M.P.Chudzik
;
C.R.Kannewurf
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
56.
Chemical vapor deposition of strontium ruthenate thin films from Bis(2,4-dimethylpentadienyl) ruthenium and bis(tetramethylheptanedionato) strontium
机译:
双(2,4-二甲基戊二烯基)钌和双(四甲基庚二酮基)锶对钌酸锶薄膜的化学气相沉积
作者:
Richard Breitkopf
;
Lamartine J.Meda
;
Terry haas
;
Rein U.Kirss
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
57.
Chemically prepared lead magensium niobate delectrics
机译:
化学制备的铌酸铅镁电介质
作者:
B.A.Turrle
;
J.A.Voigt
;
D.L.Sipola
;
W.R.Olson
;
D.M.Goy
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
58.
Chemical and sonochemical approaches to the formation of VO_2 films and VO_2-impreganted materials
机译:
化学和声化学方法形成VO_2薄膜和VO_2浸渍的材料
作者:
V.Keppens
;
D.Mandrus
;
L.a.Boatner
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
59.
Spray chemical vapor deposition of CuInS_2 thin films for application in solar cell devices
机译:
用于太阳能电池设备的CuInS_2薄膜的喷射化学气相沉积
作者:
Jennifer A.Hollingsworth
;
William E.Burro
;
aloysius F.Hepp
;
Philip P.Jenkins
;
Marak a.Stan
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
60.
Spectroscopy and structural studies of some precursors for the deposition of PZT and related materials by MOCVD
机译:
MOCVD沉积PZT及相关材料的一些前体的光谱学和结构研究
作者:
Kirsty A.Fleeting
;
Tony C.Jones
;
Tim Leedham
;
M.Azad Malik
;
Paul OBrien
;
David J.Otway
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
61.
Single source CVD of LiAlO_2
机译:
LiAlO_2的单源CVD
作者:
Wonyong Koh
;
Su-Jin Ku
;
Yunsoo Kim
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
62.
Room temperature magnetoresistance in La_xGa_YMnO_3 thin-films deposited by liquid delivery chemical vapor deposition
机译:
液体输送化学气相沉积La_xGa_YMnO_3薄膜的室温磁阻
作者:
D.Studiebaker
;
M.Todd
;
G.Doubinina
;
C.Seegal
;
T.H.Baum
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
63.
Preparation of ybco superconducting thin film by pulsed thermal decomposition of ultrasonic-misted nitrate solution
机译:
超声弥散硝酸盐溶液的脉冲热分解制备ybco超导薄膜
作者:
Junichi Kinugasa
;
Akimitsu Hatta
;
Toshimichi Ito
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
64.
Preparation of Ti-based ferroelectric thin films from heterometallic coordination compounds
机译:
由杂金属配位化合物制备Ti基铁电薄膜
作者:
V.T.Moshnyaga
;
I.V.Khoroshun
;
P.a.Petrenko
;
D.Gshaban
;
L.L.Kuliuk
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
65.
Properties of TiN and deosited by CVD on graphite for pyrochemical applications
机译:
TiN的性质以及通过CVD在石墨上进行去雾处理以用于热化学应用
作者:
P.S.Maiya
;
B.M.Moon
会议名称:
《Symposium on Chemical Aspects of Electronic Ceramics Processing November 30-December 4, 1997, Boston, Massachusetts, U.S.A.》
|
1997年
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