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MONOMER FOR HARDMASK COMPOSITION, HARDMASK COMPOSITION INCLUDING SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERNS USING HARDMASK COMPOSITION

机译：用于HARDMASK组合物的单体，包括其的HARDMASK组合物和使用HARDMASK组合物形成图案的方法

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摘要

The present invention relates to a monomer for hardmask compositions expressed by chemical formula 1, a hardmask composition including the same and a method for forming patterns using the same. A, A, A′, L, X, X′, X″, k, m and n of the chemical formula 1 have the same definition as in the patent specification.;COPYRIGHT KIPO 2015

机译：本发明涉及由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体，包括该单体的硬掩模组合物以及使用该单体形成图案的方法。化学式1的A，A，A，A，A，A，A，A，A，K，m和n与专利说明书中的定义相同。; COPYRIGHT KIPO 2015

著录项

公开/公告号KR20150002931A

专利类型
公开/公告日2015-01-08

原文格式PDF
申请/专利权人 CHEIL INDUSTRIES INC.;
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申请/专利号KR20130073949
发明设计人 SHIN SEUNG WOOKKR;KIM GO UNKR;HONG SEUNG HEEKR;SONG HYUN JIKR;PARK YOU JUNGKR;LEE CHUNG HEONKR;YOON YONG WOONKR;MOON JOON YOUNGKR;KIM YUN JUNKR;PARK YU SHINKR;CHOI YOO JEONGKR;KIM YOUNG MINKR;KIM HEA JUNGKR;PARK YO CHOULKR;
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申请日2013-06-26
分类号C07C39/12;G03F7/11;H01L21/027;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 15:00:58

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