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MONOMER FOR HARDMASK COMPOSITION AND HARDMASK COMPOSITION INCLUDING THE MONOMER AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION

机译:用于哈姆达克组合物的单体和包括该单体的哈姆达克组合物和使用该哈姆达克组合物形成图案的方法

摘要

A hard mask composition comprising the monomer, and a pattern forming method using the hard mask composition. [Chemical Formula 1] In Formula 1, A, A ', X , Y, l, m and n are as defined in the specification.
机译:包含单体的硬掩模组合物,以及使用该硬掩模组合物的图案形成方法。 [化学式1]在式1中,A,A′,X Y,l,m和n如说明书中所定义。

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