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一种方向可控的椭圆光学涡旋阵列掩模板的设计方法

摘要

一种方向可控的椭圆光学涡旋阵列掩模板的设计方法,首先,定义系统直角坐标系,以每个涡旋的中心为坐标点,得到阵列的位置矩阵,以位置矩阵中的坐标点为原点为每个光学涡旋分别定义一个极坐标系,在其角向坐标中增加一旋转角度,得到具有一定角度的直角坐标系;后进行非对称变换,实现光学涡旋的拉伸或压缩,将直角坐标系进行变换得到具有不同方向的椭圆坐标系,通过上述的位置矩阵和椭圆坐标系代入公式可获得方向可控的椭圆光学涡旋阵列掩模板的复透过率函数,本发明获得的掩模板在远场产生长轴方向可控的椭圆光学涡旋阵列。每个椭圆光学涡旋的长轴方向可由相应的极坐标系角向分量变化得到,在光诱导材料定向成型领域具有重要的应用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN110703436B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河南科技大学;

    申请/专利号CN201910994681.0

  • 发明设计人 李新忠;王亚坤;台玉萍;

    申请日2019-10-18

  • 分类号G02B27/00(20060101);G06F30/20(20200101);

  • 代理机构41120 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙);

  • 代理人王学鹏

  • 地址 471000 河南省洛阳市涧西区西苑路48号

  • 入库时间 2022-08-23 12:16:57

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