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具有由金属源极/漏极和共形再生长源极/漏极导致的单轴应变的量子阱MOSFET沟道

摘要

本发明涉及具有由金属源极/漏极和共形再生长源极/漏极导致的单轴应变的量子阱MOSFET沟道。描述的实施例包括具有金属源极/漏极的应变晶体管量子阱(QW)沟道区以及共形再生长源极/漏极,以在MOS沟道区中赋予单轴应变。可以利用晶格间距与沟道材料的晶格间距不同的结材料填充沟道层的被去除部分,以除了双轴应变之外,在沟道中导致单轴应变,双轴应变是由量子阱的顶部势垒层和底部缓冲层在沟道层中导致的。

著录项

  • 公开/公告号CN105428228B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201510756005.1

  • 申请日2009-12-23

  • 分类号H01L21/285(20060101);H01L21/768(20060101);H01L29/417(20060101);H01L29/66(20060101);H01L29/778(20060101);H01L29/78(20060101);H01L29/80(20060101);H01L29/165(20060101);H01L29/51(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人张伟;王英

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 10:35:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-18

    授权

    授权

  • 2016-04-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/285 申请日:20091223

    实质审查的生效

  • 2016-04-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/285 申请日:20091223

    实质审查的生效

  • 2016-03-23

    公开

    公开

  • 2016-03-23

    公开

    公开

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