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薄膜沉积源、沉积装置和使用该沉积装置的沉积方法

摘要

公开了一种薄膜沉积源、一种沉积装置和一种使用该沉积装置的沉积方法。所述沉积装置包括:沉积源,该沉积源包括将沉积物质喷射在基板的表面上并被布置为沿第一方向的多个喷嘴;和至少一个快门,该至少一个快门通过打开或遮蔽所述沉积物质的喷射通道的至少一部分来控制所述沉积物质的喷射区域。

著录项

  • 公开/公告号CN103849857B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-12-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星显示有限公司;

    申请/专利号CN201310516033.7

  • 发明设计人 李钟禹;

    申请日2013-10-28

  • 分类号C23C16/455(20060101);C23C16/52(20060101);C23C14/22(20060101);C23C14/54(20060101);

  • 代理机构11018 北京德琦知识产权代理有限公司;

  • 代理人李文颖;周艳玲

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 10:03:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-01

    授权

    授权

  • 2015-11-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20131028

    实质审查的生效

  • 2015-11-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20131028

    实质审查的生效

  • 2014-06-11

    公开

    公开

  • 2014-06-11

    公开

    公开

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