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彭补之;
膜层性能; 可控; 沉积速率; 多层复合膜; 化学气相沉积装置; 方法;
机译:SINX和等离子体聚合物层的室温沉积用于柔性多层阻挡膜通过等离子体增强化学气相沉积方法
机译:通过大气压化学气相沉积进行差分压力化学气相沉积的少层铌二硫化铌的可控增长
机译:通过从正羧硼烷和吡啶源化合物沉积的复合膜的化学和电子结构沉积的等离子体增强的化学气相沉积
机译:用三甲基硅烷化学气相沉积通过化学气相沉积在硅(111)基材上的高生长速率
机译:氮化镍膜的原子层沉积和直接液化化学气相沉积及其转化为硅化镍膜。
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
机译:化学气相沉积/电化学气相沉积法在陶瓷膜中孔隙缩小和超薄氧化钇稳定氧化锆层的形成
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积
机译:用于原子层化学气相沉积的膜沉积装置中的旋转滚筒和用于原子层化学气相沉积的膜沉积装置中的旋转滚筒
机译:增强集成电路中层间介电层的有机化学物种的化学气相沉积膜的沉积速率的方法
机译:用于化学气相的自动阀控制系统,其与等离子体沉积系统以及用于在纳米级沉积更多层膜的化学气相沉积系统一起运行
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