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用于预熔向主坩埚供给的硅的预熔装置

摘要

本实用新型涉及用于预熔向主坩埚供给的硅的预熔装置,该装置可以精密测量向硅锭生长坩埚投入的熔融硅的投入量,从而可以有效进行投入量的控制,根据本实用新型的一实施方式,公开一种用于预熔向主坩埚供给的硅的预熔装置,其包括:预备坩埚,用于在接收固态的硅材料来进行加热以使其成为熔融状态的硅后,向硅锭生长的主坩埚供给熔融状态的硅;预备坩埚移动模块,用于向第一位置或第二位置中的一个倾斜上述预备坩埚,上述第一位置为在上述预备坩埚中装有上述固态的硅材料或上述熔融硅的姿势,上述第二位置为上述预备坩埚的上述熔融硅流向上述主坩埚的位置;以及控制部,用于控制上述预备坩埚移动模块。

著录项

  • 公开/公告号CN215713520U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 韩华思路信;

    申请/专利号CN202022897529.1

  • 申请日2020-12-03

  • 分类号C30B15/02(20060101);C30B15/20(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈万青;李雪

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 04:29:05

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