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用于为显微结构的电磁散射性质建模的方法和设备以及用于重构显微结构的方法和设备

摘要

本发明公开了一种用于对显微结构的电磁散射性质建模的方法和设备以及用于重构显微结构的方法和设备。通过数值求解矢量场F的体积积分方程式实现计算结构的电磁散射性质的体积积分方法的收敛性改善。矢量场F可以通过基的变化与电场E相关,并且可以在材料边界处可以是连续的。根据Laurent(劳伦)规则使用卷积算子执行矢量场F的卷积,其允许经由一维和/或二维快速傅里叶变换实现有效的矩阵矢量乘积。一种可逆的卷积-基变化算子C配置成通过根据周期性结构的材料性质和几何性质执行基的变化而将矢量场F转换成电场E。改善的体积积分方法可以并入量测工具中的向前衍射模型,用于重构物体的近似结构,以便评估光刻设备的临界尺寸性能。

著录项

  • 公开/公告号CN102033433B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201010294451.2

  • 发明设计人 M·C·范布尔登;

    申请日2010-09-21

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王波波

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 09:21:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-15

    授权

    授权

  • 2011-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20100921

    实质审查的生效

  • 2011-04-27

    公开

    公开

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