公开/公告号CN102033433B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-10-15
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201010294451.2
发明设计人 M·C·范布尔登;
申请日2010-09-21
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 09:21:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-10-15
授权
授权
2011-06-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20100921
实质审查的生效
2011-04-27
公开
公开
机译: 用于建模微观结构的电磁散射特性的方法和装置以及用于重构微观结构的方法和装置。
机译: 用于重构微结构体的装置和方法,用于建模由于辐射的微结构体的电磁散射特性的装置和方法
机译: 用于建模微观结构电磁散射特性的方法和装置以及用于重构微观结构的方法和装置