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一种模型理论光谱计算方法和装置

摘要

本发明提供了一种模型理论光谱计算方法和装置。本申请的模型理论光谱计算方法,包括:建立样品形貌模型,并建立XOZ平面坐标系;获取样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓;在平面轮廓上获取多个采样点,并根据多个采样点构成初始点集;根据初始点集得到Z坐标分层值集合;根据Z坐标分层值集合计算理论光谱。本申请的模型理论光谱计算方法通过获取样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓,并记录平面轮廓中的多个采样点,根据多个采样点构成初始点集,根据初始点集的Z坐标值进行分层,能够在线形发生改变的地方对样品形貌模型进行分层,之后根据分层值进行理论光谱的计算,在保证精度的同时减少片层的划分数量,能够提升理论光谱计算的速度。

著录项

  • 公开/公告号CN114329948A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海精测半导体技术有限公司;

    申请/专利号CN202111602467.X

  • 发明设计人 张晓雷;张厚道;施耀明;

    申请日2021-12-24

  • 分类号G06F30/20(20200101);

  • 代理机构31286 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黄海霞

  • 地址 201700 上海市青浦区徐泾镇双浜路269、299号1幢1、3层

  • 入库时间 2023-06-19 14:51:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    公开

    发明专利申请公布

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