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折射率逐渐变化的多层硅无反射膜及其制备方法以及具有该多层硅无反射膜的太阳能电池及其制备方法

摘要

本发明涉及折射率逐渐变化的多层硅无反射膜及其制备方法,以及具有该多层硅无反射膜的太阳能电池及其制备方法,本发明的特征在于,通过将硅倾斜于半导体或玻璃基板上进行蒸镀,来调节硅薄膜的折射率,且通过利用变换倾斜角来层压为多层的多层硅膜,来体现折射率逐渐变化的无反射膜。并且,对硅太阳能电池适用本发明的多层硅无反射膜,因此具有能够抑制太阳能电池的内部的反射,并具有能够提供利用高传热系数的良好的散热特性的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN103069308A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-04-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 光州科学技术院;

    申请/专利号CN201180037846.7

  • 发明设计人 张诚浚;李用卓;宋泳旻;

    申请日2011-07-29

  • 分类号G02B1/11(20060101);G02B5/22(20060101);B32B9/00(20060101);H01L31/042(20060101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人武晨燕;张颖玲

  • 地址 韩国光州广域市

  • 入库时间 2024-02-19 19:46:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-07-01

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B1/11 申请公布日:20130424 申请日:20110729

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-05-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B1/11 申请日:20110729

    实质审查的生效

  • 2013-04-24

    公开

    公开

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