基于几何形状约束的电阻抗层析成像内含物边界重建方法

摘要

本发明涉及一种基于几何形状约束的电阻抗层析成像内含物边界重建方法，包括：1)采用局部弧长参数x(s)表征目标内含物的边界；2)基于残差函数和几何形状约束构建形状反演问题的能量函数：3)根据变分法原理，使能量函数ε(x)最小化的最优边界估计x满足拉格朗日方程；对能量函数中的变量进行离散化处理，由一系列离散点[x(s1),x(s2),…,x(sN)]表征内含物边界；4)采用半隐式方法迭代求解拉格朗日方程；5)经过多次迭代后边界估计值上的采样点可逐步逼近目标内含物的真实边界，实现内含物边界重建。