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机译:使用最小的干蚀刻步骤在没有侧壁沉积物的玻璃上产生多尺度金纳率
NIST 100 Bur Dr Gaithersburg MD 20899 USA;
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NIST 100 Bur Dr Gaithersburg MD 20899 USA;
reactive ion etching; gold etching; nanogaps; nanopatterns; nanoelectrodes; sidewall veil;
机译:使用最小的干蚀刻步骤在没有侧壁沉积物的玻璃上产生多尺度金纳率
机译:等离子刻蚀步骤对异质集成方案中鳍式FET沟道侧壁粗糙度的影响研究
机译:具有垂直和光滑侧壁的各向异性硅纳米结构制造各向异性硅纳米结构的蚀刻方法
机译:通过ICP干法蚀刻和化学蚀刻,具有非常光滑和垂直侧壁的GaN基脊形波导
机译:通过非光刻各向异性蚀刻制造的纳米结构玻璃的极高润湿性
机译:玻璃波纹侧壁的自组织近场蚀刻
机译:干蚀刻对Gaas沟道垂直侧壁的损伤