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X線光電子分党分析やオージェ電子分光分析を用いるAl合金の表面分析

机译:X射线光电子分裂分析和俄歇电子能谱分析对铝合金的表面分析

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摘要

本解説では,X線光電子分光分析(XPS)装置およびオージェ電子分光分析(AES)装置を各種金属カチオンが存在する0.5kmolm~(-3)H_3BO_3/0.05kmolm~(-3)Na_2B_4O_7でアルミニウム合金上に形成した不働態皮膜の構造解析への適用例を紹介した.硬い柔らかい酸·塩基(HSAB)理論より計算されるカチオンの硬さ,Xにより金属カチオンの影響を整理出来る.XPS測定よりズが4以上の金属カチオンは,不働態皮膜外層に存在していることが示された.AESにより微小領域を観察しながらの分析結果についても紹介した.
机译:在此说明中,X射线光电子能谱分析(XPS)设备和俄歇电子能谱分析(AES)设备是铝,具有0.5 kmolm〜(-3)H_3BO_3 / 0.05 kmolm〜(-3)Na_2B_4O_7,其中存在各种金属阳离子。我们介绍了在合金上形成的固定膜的结构分析中的应用示例。金属阳离子的影响可以通过根据硬酸和软酸碱(HSAB)理论和X计算得出的阳离子硬度来分类。 XPS测量表明,在非活性膜的外层中存在尺寸为4或更大的金属阳离子。我们还介绍了分析结果,同时使用AES观察微小区域。

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