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1.
A pattern-based methodology for optimizing stitches in double-patterning technology
机译:
基于图案的双图案技术中的针迹优化方法
作者:
Lynn T.-N. Wang
;
Sriram Madhavan
;
Vito Dai
;
Luigi Capodieci
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
DFM;
design for manufacturability;
double patterning;
LELE;
decomposition;
stitching;
pattern matching;
topological patterns;
layout regularization;
optimization;
lithography;
misalignment;
hotspots;
2.
Self-Aligned Quadruple Patterning-Compliant Placement
机译:
自对准四重图案兼容布局
作者:
Fumiharu Nakajima
;
Chikaaki Kodama
;
Koichi Nakayama
;
Shigeki Nojima
;
Toshiya Kotani
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Multiple patterning;
Self-Aligned Quadruple Patterning;
SAQP;
Optical lithography;
Placement;
DFM;
3.
An Efficient Auto TPT Stitch Guidance Generation for Optimized Standard Cell Design
机译:
用于优化标准单元设计的高效自动TPT针迹指导生成
作者:
Nagaraj Chary Samboju
;
Soo-Han Choi
;
Srini Arikati
;
Erdem Cilingir
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Standard Cell Design;
Triple Patterning;
Place Route;
Categorized Stitch marker;
4.
DTCO at N7 and Beyond: Patterning and Electrical Compromises and Opportunities
机译:
DTCO在N7及以后:图案形成,电气危害和机遇
作者:
Julien Ryckaert
;
Praveen Raghavan
;
Pieter Schuddinck
;
Huynh Bao Trong
;
Arindam Mallik
;
Sushil S. Sakhare
;
Bharani Chava
;
Yasser Sherazi
;
Philippe Leray
;
Abdelkarim Mercha
;
Juergen Boemmels
;
Gregory R. McIntyre
;
Kurt G. Ronse
;
Aaron Thean
;
Zsolt Toekei
;
An Steegen
;
Dieder
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
N7;
FinFET;
DTCO;
193i lithography;
EUV lithography;
SADP;
SAQP;
5.
Layout optimization with assist features placement by model based rule tables for 2× node random contact
机译:
通过基于模型的规则表对2个节点随机接触的辅助特征放置进行布局优化
作者:
Jinhyuck Jun
;
Minwoo Park
;
Chanha Park
;
Hyunjo Yang
;
Donggyu Yim
;
Munhoe Do
;
Dongchan Lee
;
Taehoon Kim
;
Junghoe Choi
;
Gerard Luk-Pat
;
Alex Miloslavsky
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Model Assisted Rule Tables(MART);
RBAF(Rule Based Assist Feature);
MBAF(Model Based Assist Feature);
time consuming;
process margin;
6.
Standard cell design in N7: EUV vs. Immersion
机译:
N7中的标准电池设计:EUV与浸没
作者:
Bharani Chava
;
David Rio
;
Yasser Sherazi
;
Darko Trivkovic
;
Werner Gillijns
;
Peter Debacker
;
Praveen Raghavan
;
Ahmad Elsaid
;
Mircea Dusa
;
Abdelkarim Mercha
;
Julien Ryckaert
;
Diederik Verkest
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
193-i;
DTCO;
standard cell;
7.
Breaking Through 1-D Layout Limitations and Regaining 2-D Design Freedom Part Ⅰ: 2-D Layout Decomposition and Stitching Techniques for Hybrid Optical and Self-aligned Multiple Patterning
机译:
突破一维布局限制并重新获得二维设计自由第一部分:混合光学和自对准多重图案的二维布局分解和拼接技术
作者:
Hongyi Liu
;
Jun Zhou
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
self-aligned multiple patterning (SAMP);
positive-tone self-aligned sextuple patterning (pSASP);
hybrid SAMP;
stitching;
layout decomposition and synthesis;
8.
Akaike information criterion to select well-fit resist models
机译:
赤池信息准则选择合适的抗蚀剂模型
作者:
Andrew Burbine
;
David Fryer
;
John Sturtevant
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Akaike information criterion;
model selection;
OPC;
photoresist models;
9.
Fast source optimization by clustering algorithm based on lithography properties
机译:
基于光刻特性的聚类算法快速优化光源
作者:
Masashi Tawada
;
Takaki Hashimoto
;
Keishi Sakanushi
;
Shigeki Nojima
;
Toshiya Kotani
;
Masao Yanagisawa
;
Nozomu Togawa
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Source Optimization (SO);
Image Log Slope (ILS);
Lithography;
10.
Layout optimization and trade-off between 193i and EUV-based patterning for SRAM cells to improve performance and process variability at 7nm technology node
机译:
用于SRAM单元的193i和基于EUV的图案之间的布局优化和权衡,以改善7nm技术节点处的性能和工艺可变性
作者:
Sushil Sakhare
;
Darko Trivkovic
;
Tom Mountsier
;
Min-Soo Kim
;
Dan Mocuta
;
Julien Ryckaert
;
Abdelkarim Mercha
;
Diederik Verkest
;
Aaron Thean
;
Mircea Dusa
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
EUVL;
193i lithography;
Design Technology co-optimization;
7nm technology;
SRAM cell design;
multi-patterning;
Fin-CUT optimization;
middle of line scheme for SRAM design. Orientation of 1st metal;
Mint;
11.
Incorporating DSA in multipatterning semiconductor manufacturing technologies
机译:
将DSA纳入多图案半导体制造技术
作者:
Yasmine Badr
;
J. Andres Torres
;
Yuansheng Ma
;
Joydeep Mitra
;
Puneet Gupta
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Directed Self Assembly (DSA);
DFM;
Lithography checks;
layout verification;
multi patterning;
physical verifications;
grapho epitaxy;
12.
Design Layout Analysis and DFM Optimization using Topological Patterns
机译:
使用拓扑模式的设计布局分析和DFM优化
作者:
Ji Xu
;
Karthik N. Krishnamoorthy
;
Edward Teoh
;
Vito Dai
;
Luigi Capodieci
;
Jason Sweis
;
Ya-Chieh Lai
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
topology;
pattern;
design rule;
layout;
analysis;
manufacturability;
13.
A methodology to optimize design pattern context size for higher sensitivity to hotspot detection using pattern association tree (PAT)
机译:
一种优化设计模式上下文大小的方法,以便使用模式关联树(PAT)对热点检测具有更高的敏感性
作者:
Shikha Somani
;
Piyush Pathak
;
Piyush Verma
;
Sriram Madhavan
;
Luigi Capodieci
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
14.
20NM CMP MODEL CALIBRATION WITH OPTIMIZED METROLOGY DATA AND CMP MODEL APPLICATIONS
机译:
优化计量数据的20NM CMP模型校准及CMP模型应用
作者:
Ushasree Katakamsetty
;
Dinesh Koli
;
Yeo Sky
;
Hui Colin
;
Ruben Ghulghazaryan
;
Burak Aytuna
;
Jeff Wilson
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
CMP;
Topography;
Lithography;
Depth of Focus;
DFM;
CMP modeling;
CMP hotspots;
Fill;
15.
TOPOGRAPHY AWARE DFM RULE BASED SCORING FOR SILICON YIELD MODELING
机译:
基于拓扑AFM的DFM规则评分的硅产量建模
作者:
Vikas Tripathi
;
Ushasree Katakamsetty
;
Yeo Sky
;
Hui Colin
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
16.
Efficient Etch Bias Compensation Techniques for Accurate On-wafer Patterning
机译:
有效的晶圆上构图的有效蚀刻偏差补偿技术
作者:
Mohamed Salama
;
Ayman Hamouda
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
OPC;
Model based Etch Correction;
Etch Modeling;
Rule Based Etch Correction;
17.
An Efficient lithographic hotspot severity analysis methodology using Calibre PATTERN MATCHING and DRC application
机译:
使用口径图案匹配和DRC应用程序的高效光刻热点严重性分析方法
作者:
ZeXi Deng
;
ChunShan Du
;
Lin Hong
;
LiGuo Zhang
;
JinYan Wang
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Pattern Matching;
pattern library;
Litho DFM;
Scoring;
hotspot fixing;
18.
A holistic methodology that drives to process window entitlement and its application to 20 nm logic
机译:
全面的方法可驱动处理窗口授权及其在20 nm逻辑中的应用
作者:
Lalit Shokeen
;
Ayman Hamouda
;
Mark Terry
;
Dan J. Dechene
;
Stephen Hsu
;
Michael Crouse
;
Pengcheng Li
;
Keith Gronlund
;
Gary Zhang
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
RET;
Mask Optimization;
Process window entitlement;
19.
Comparison of OPC job prioritization schemes to generate data for mask manufacturing
机译:
比较OPC作业优先级排序方案以生成用于掩模制造的数据
作者:
Travis Lewis
;
Vijay Veeraraghavan
;
Kenneth Jantzen
;
Stephen Kim
;
Minyoung Park
;
Gordon Russell
;
Mark Simmons
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
foundry;
OPC;
cycle time;
resource allocation;
job scheduling;
20.
VLSI Physical Design Analyzer: A profiling and data mining tool
机译:
VLSI物理设计分析器:性能分析和数据挖掘工具
作者:
Shikha Somani
;
Piyush Verma
;
Sriram Madhavan
;
Fadi Batarseh
;
Robert C. Pack
;
Luigi Capodieci
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
21.
Automatic DFM methodology for Bit-Line Pattern Dummy
机译:
用于位线图案虚拟的自动DFM方法
作者:
Mohamed Bahr
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
DFM;
bit-line;
pattern dummy;
physical verification;
22.
The daunting complexity of scaling to 7NM without EUV: Pushing DTCO to the extreme
机译:
不使用EUV扩展至7NM的艰巨复杂性:将DTCO推向极限
作者:
Lars Liebmann
;
Albert Chu
;
Paul Gutwin
会议名称:
《》
|
2015年
关键词:
Design technology co-optimization;
standard cell logic design;
cell architecture optimization;
gearratio definition;
cell-abstractions;
23.
High Coverage of Litho Hotspot Detection by Weak Pattern Scoring
机译:
弱模式评分技术可覆盖高范围的光刻热点
作者:
Jinho Park
;
NamJae Kim
;
Jae-hyun Kang
;
Senng Weon Paek
;
Steve Kwon
;
Marwah Shafee
;
Kareem Madkour
;
Wael ElManhawy
;
Joe Kwan
;
Jean-Marie Brunet
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
DFM Scoring;
Pattern Library;
Litho Hotspot Detection;
Design Technology Co-Optimization (DTCO);
24.
Fast Detection of Manufacturing Systematic Design Pattern Failures Causing Device Yield Loss
机译:
快速检测导致设备良率损失的制造系统设计模式故障
作者:
Jean-Christophe LE DENMAT
;
Nelly FELDMAN
;
Olivia RIEWER
;
Emek YESILADA
;
Michel VALLET
;
Christophe SUZOR
;
Salvatore TALLUTO
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
device yield;
optical lithography;
critical design pattern;
wafer inspection;
PWQ;
systematic defectivity;
electrical scan test;
ATPG;
test diagnosis;
EWS;
EFA;
25.
Topology and context-based pattern extraction using line-segment Voronoi diagram
机译:
使用线段Voronoi图提取拓扑和基于上下文的模式
作者:
Sandeep Kumar Dey
;
Panagiotis Cheilaris
;
Nathalie Casati
;
Maria Gabrani
;
Evanthia Papadopoulou
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Voronoi diagram;
line-segment;
photolithography;
pattern selection;
ORC;
OPC;
26.
A Systematic Framework for Evaluating Standard Cell Middle-Of-Line (MOL) Robustness for Multiple Patterning
机译:
评估多图案的标准单元中间线(MOL)鲁棒性的系统框架
作者:
Xiaoqing Xu
;
Brian Cline
;
Greg Yeric
;
Bei Yu
;
David Z. Pan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Multiple Patterning;
Middle-Of-Line;
Cell Compatibility Check;
27.
Impact of a SADP flow on the design and process for N10/N7 Metal layers
机译:
SADP流程对N10 / N7金属层的设计和工艺的影响
作者:
W. Gilljns
;
S. M. Y. Sherazi
;
D. Trivkovic
;
B. Chava
;
B. Vandewalle
;
V. Gerousis
;
P. Raghavan
;
J. Ryckaert
;
K. Mercha
;
D. Verkest
;
G. McIntyre
;
K. Ronse
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
28.
Yield-aware Mask Assignment using Positive Semidefinite Relaxation in LELECUT Triple Patterning
机译:
在LELECUT三重图案化中使用正半定松弛的良率感知蒙版分配
作者:
Yukihide Kohira
;
Chikaaki Kodama
;
Tomomi Matsui
;
Atsushi Takahashi
;
Shigeki Nojima
;
Satoshi Tanaka
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
|
2015年
关键词:
Triple Patterning;
LELECUT;
Design for Manufacturability;
Positive Semidefinite Relaxation;
29.
Layout Dependent Effects Analysis on 28nm Process
机译:
28nm工艺的布局相关效应分析
作者:
Helen Li
;
Mealie Zhang
;
Waisum Wong
;
Huiyuan Song
;
Wei Xu
;
Philippe Hurat
;
Hua Ding
;
Yifan Zhang
;
Michel Cote
;
Jason Huang
;
Ya-ch Lai
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
Layout Dependent Effect;
stress;
Well Proximity Effect;
Length OF Diffusion;
Poly Spacing Effect;
30.
Full chip two-layer CD and overlay process window analysis
机译:
全芯片两层CD和覆盖过程窗口分析
作者:
Rachit Gupta
;
Shumay Shang
;
John Sturtevant
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
Simulation;
overlay;
process window;
OPC;
31.
Quantitative evaluation of manufacturability and performance for ILT produced mask shapes using a single objective function
机译:
使用单个目标函数对ILT生产的掩模形状的可制造性和性能进行定量评估
作者:
Heon Choi
;
Wei-long Wang
;
Chidam Kallingal
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
32.
Statistical Modeling of SRAM Yield Performance and Circuit Variability
机译:
SRAM良率性能和电路可变性的统计建模
作者:
Qi Cheng
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
SRAM;
SASP;
SAQP;
circuit variability;
statistical modeling;
yield;
33.
Automation for Pattern Library Creation and In-Design Optimization
机译:
模式库创建和设计中优化的自动化
作者:
Rock Deng
;
Elain Zou
;
Sid Hong
;
Jinyan Wang
;
Yifan Zhang
;
Jason Sweis
;
Ya-Chieh Lai
;
Hua Ding
;
Jason Huang
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
DFM;
pattern matching;
auto fixing;
34.
A New Lithography Hotspot Detection Framework Based on AdaBoost Classifier and Simplified Feature Extraction
机译:
基于AdaBoost分类器和简化特征提取的光刻热点检测新框架。
作者:
Tetsuaki Matsunawa
;
Jhih-Rong Gao
;
Bei Yu
;
David Z. Pan
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
Design for Manufacturability;
Lithography Hotspot Detection;
Machine Learning;
Real AdaBoost;
35.
A Compact Model to Predict Pillar-Edge-Roughness Effects on 3D Vertical Nanowire MOSFETs Using the Perturbation Method
机译:
使用微扰方法预测3D垂直纳米线MOSFET的柱边缘粗糙度的紧凑模型
作者:
Pu Wang
;
Chuyang Hong
;
Qi Cheng
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
3D vertical nanowire MOSFETs;
pillar-edge roughness (PER);
Poisson's equation;
Laplace equation;
perturbation method;
36.
Practical DTCO Through Design/Patterning Exploration
机译:
通过设计/图案探索实用的DTCO
作者:
Neal Lafferty
;
Jason Meiring
;
Mohamed Bahnas
;
Joseph ONeill
;
Toshikazu Endo
;
Dan Schumacher
;
James Culp
;
Glenn Wawrzynski
;
Gurpreet Singh Lamba
;
Kostas Adam
;
John Sturtevant
;
Chris McGinty
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
Design Technology Co-Optimization;
37.
The cell pattern correction through design based metrology
机译:
通过基于设计的计量学进行细胞图案校正
作者:
Yonghyeon Kim
;
Kweonjae Lee
;
Jinman Chang
;
Taeheon Kim
;
Daehan Han
;
Kyusun Lee
;
Aeran Hong
;
Jinyoung Kang
;
Bumjin Choi
;
Joosung Lee
;
Kyehee Yeom
;
Jooyoung Lee
;
Hyeongsun Hong
;
Kyupil Lee
;
Gyoyoung Jin
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
Cell;
pattern overlay;
Design based Metrology;
Overlay;
CD uniformity;
3sigma;
Composite;
38.
Breaking Through 1-D Layout Limitations and Regaining 2-D Design Freedom Part Ⅱ: Stitching Yield Modeling and Optimization
机译:
突破一维布局的局限性,重新获得二维设计的自由度第二部分:拼接产量建模与优化
作者:
Jun Zhou
;
Hongyi Liu
;
Ting Han
;
Yijian Chen
会议名称:
《Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX》
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2015年
关键词:
stitching yield;
overlay error;
cut hole;
overhang;
probability of success (POS);
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