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Process physics and modeling in semiconductor technology
Process physics and modeling in semiconductor technology
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1.
Dislocation Dynamics in Silicon Near Patterned Pads
机译:
硅附近图案化焊盘中的位错动力学
作者:
K. W. Schwarz
;
D. Chidambarrao
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
2.
Three-dimensional monte-carlo ion implantation simulation for molecular ions
机译:
分子离子的三维蒙特卡洛离子注入模拟
作者:
A. Hossinger
;
S. Selberherr
;
M. Kimura
;
I. Nomachi
;
S. Kusanagi
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
3.
The pieces of the puzzle: challenges in modeling of transient enhanced diffusion
机译:
难题的一部分:瞬态增强扩散的建模挑战
作者:
Alp H. Gencer
;
Scott T. Dunham
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
4.
The dopant trapping and de-trapping at the SiO_2/Si interface
机译:
SiO_2 / Si界面处的杂质俘获和去俘获
作者:
Song Zhao
;
Charles F. Machala
;
Mi-Chang Chang
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
5.
Study of chemical mechanical polishing on shallow trench isolation (STI) to obtain low defect
机译:
在浅沟槽隔离(STI)上进行化学机械抛光以获得低缺陷的研究
作者:
Myoung-Kee Baek
;
Sang-Yong Kim
;
Chang-II Kim
;
Eui-Goo Chang
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
6.
Phoshorus diffusion from doped polysilicon through ultrathin SiO_2 films into Si substrates
机译:
磷从掺杂多晶硅中扩散穿过硅衬底上的超薄SiO2膜
作者:
Y. Tsubo
;
Y. Komatsu
;
K. Saito
;
S. Matsumoto
;
Y. Sato
;
I. Yamamoto
;
Y. Yamashita
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
7.
A Process Simulation Model for Transient and Equilibrium Arsenic/Phosphorus Codiffusion in Silicon with Zero Computational Overhead
机译:
计算开销为零的硅中瞬态和平衡砷/磷共扩散过程仿真模型
作者:
Alexander Hoefler
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
8.
Numerical simulations of sputter depositon and etching in trenches using the level set technique
机译:
使用水平集技术的沟槽中溅射沉积和蚀刻的数值模拟
作者:
Peter L. OSullivan
;
Frieder H. Baumann
;
George H. Gilmer
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
9.
Ab initio calculations of as-vacancy interactions in silicon
机译:
硅中空位相互作用的从头算
作者:
Jianjun Xie
;
S.P. Chen
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
10.
Local damage accumulation model for ultra-low energy ion implantation
机译:
超低能离子注入的局部损伤累积模型
作者:
Jeong-Won KANG
;
K.W.LEE
;
Ho-Jung HWANG
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
11.
Enercetics and kinetics of extended {311} defects in silicon
机译:
硅中扩展的{311}缺陷的能量和动力学
作者:
Pavel Fastenko
;
scott T. Dunham
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
12.
Computationally efficient analytical model for 2-D ion implant simulation
机译:
二维离子注入仿真的高效计算分析模型
作者:
Di Li
;
Ganesh Balamurugan
;
Borna Obradovic
;
Geng Wang
;
Yang Chen
;
Al Tasch
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
13.
Atomistic modelling of Cu film growth
机译:
铜膜生长的原子建模
作者:
Zhiyong Wang
;
Youhong Li
;
James B. Adams
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
14.
Physically based models for indium and germanium ion implants into silicon
机译:
基于物理模型的铟和锗离子注入硅中
作者:
Y. Chen
;
B. Obradovic
;
M. Morris
;
G. Wang
;
G. Balamurugan
;
D. Li
;
A. F. Tasch
;
D.Kamenitsa
;
W. McCoy
;
S. Baumann R. Bleier
;
D. Sieloff
;
D. Dyer
;
P. Zeitzoff
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
15.
Modeling of vacancy cluster formation in ion implanted silicon
机译:
离子注入硅中空位簇形成的建模
作者:
Srinivasan Chakravarthi
;
Scott T. Dunham
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
16.
A novel method to investigate ion-beam-induced defect evolution in si
机译:
研究硅中离子束诱导缺陷演化的新方法
作者:
Matthias Posselt
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
17.
Monte carlo simulations of defects evolution and clustering in ion-implanted silicon
机译:
离子注入硅中缺陷演变和聚集的蒙特卡洛模拟
作者:
Antonino La Magna
;
Savatore Coffa
;
Sebania Libertino
;
Luciano Colombo
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
18.
Layout-related failures of defect-free isolation schemes for advanced cmos devices
机译:
高级CMOS设备的无缺陷隔离方案与布局相关的故障
作者:
I. V. Peidous
;
T. Schuelke
;
R. Sundaresan
;
S. K. Lahiri
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
19.
Direct simulation of lon beam induced stressing and amorphization of silicon
机译:
离子束诱导硅的应力和非晶化的直接模拟
作者:
Keith M. Beardmore
;
Niels Gronbech-Jensen
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
20.
Dose, energy, and ion species dependence of the effective plusfactor for transient enhanced diffusion
机译:
剂量,能量和离子种类对瞬态增强扩散的有效加因子的依赖性
作者:
G. Hobler L. Pelaz C.S. Rafferty
会议名称:
《Process physics and modeling in semiconductor technology》
|
1999年
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