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蒋济昌;
无;
晶体管; 功率晶体管; 钝化; PECVD; 氮化硅;
机译:紫外线照射和H-2钝化工艺可对PECVD技术沉积的nc-Si薄膜的发光来源进行分类和区分
机译:采用台面先钝化工艺的场镀AIGaN / GaN-on-Si HFET的击穿电压增强
机译:PECVD氮化硅中的氢解吸扩散。在CMOS有源像素传感器钝化中的应用
机译:使用PETEOS结合其他PECVD膜评估亚微米CMOS SRAM的新型钝化工艺
机译:用于集成电路钝化的低频PECVD氮化硅的合成与分析
机译:Medlay:可重新配置的微功率管理用于研究自供电系统
机译:无线传感器节点改进动态功率管理模型的性能分析
机译:通过快速热氧化物/ pECVD氮化硅叠层有效钝化低电阻率硅表面及其在钝化后部和双面si太阳能电池中的应用
机译:功率管理方法,功率管理服务器,本地控制装置和功率管理系统
机译:功率调节器,功率管理系统,功率管理方法和功率管理装置
机译:用于将不同源连接到具有可变功率需求和可变功率需求的负载的功率管理系统,用于连接到负载的功率管理系统和用于飞机的功率管理系统
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