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王俊忠; 吉元; 田彦宝; 牛南辉; 徐晨; 韩军; 郭霞; 沈光地;
北京工业大学固体微结构与性能研究所,北京,100124;
北京工业大学光电子技术研究所,北京,100124;
电子背散射衍射(EBSD); 微区应力; CaN外延层;
机译:Ain成核层中氧诱导的应变场均质化及其对蓝宝石上金属有机气相外延生长的Gan的影响:X射线衍射研究
机译:AlN成核层中氧诱导的应变场均化及其对蓝宝石上金属有机气相外延生长的GaN的影响:X射线衍射研究
机译:GaN /蓝宝石结构中弹性应变场的EBSD测量
机译:用OVPE方法评价同质外延GaN厚膜的缺陷结构。
机译:低温金属调制外延生长GaN的光致发光测量。
机译:接近无应变的GaN兼容缓冲层上GaN外延层中的超低穿线位错密度及其在异质外延LED中的应用
机译:通过激光分子束外延生长在GaN模板上的同质外延GaN纳米壁的结构,光学和电子特性
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管
机译:GaN晶体,GaN晶体衬底,GaN晶体衬底和具有外延层的半导体器件的表面处理方法,以及GaN晶体衬底和具有外延层的半导体器件的制造方法
机译:用于制造GaN基外延层的单晶衬底,制造该外延层的方法,包括该GaN基外延层的LED和LD
机译:在Creo的外延层中的局部应变场
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