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多晶发射极超增益晶体管

         

摘要

用多晶发射极工艺制成了超增益晶体管,当Ic从1mA减小到20nA时,hFE始终保持在2000左右。

著录项

  • 来源
    《电子学报》 |1981年第2期|39-39|共1页
  • 作者

    张全; 朱恩均;

  • 作者单位

    北京电子管厂;

    北京电子管厂;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
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