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【24h】

銅の孔食形態に及ぼすシリカ,塩化物,硫酸イオンの影響

机译:二氧化硅,氯化物和硫酸根离子对铜的点蚀形式的影响

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摘要

淡水環境下で発生する銅の孔食は,その形態によりI型,II型,マウンドレス型などに分類される。上のように孔食形態が分かれる要因としては水質の影響が大きい。例えばII型孔食では,(HCO_3)~-/(SO_4)~(2-)比,いわゆるマットソン比が1未満の水で発生するといわれる。また,マウンドレス型孔食発生には水中のシリカが必須と考えられている。このように銅の孔食発生には水中のイオンや溶解成分が重要な役割を果たすことが知られているが,これらイオンや溶解成分が銅の孔食形態に及ぼす影響について詳細かつ体系的に調べた研究は少ない。過去に著者らは,SiO_2,Cl~-,(SO_4)~(2-),(HCO_3)~-を含む人工淡水中での銅管浸漬試験を行い,マウンドレス型孔食を研究室内で再現した。この際,シリカやアニオン濃度の違いで孔食形態が変わる結果を得た。今回はSiO_2,Cl~-,(SO_4)~(2-)に着目し,これら三者を含む人工淡水中での長期浸漬試験を行い,銅の孔食形態に及ぼすシリカ,塩化物,硫酸イオンの影響を調べた。
机译:在淡水环境中产生铜点蚀分为I型,II,mounces等。由它的形式。其结果是,水的质量的影响是大的为其中点蚀形态被划分的一个因素。例如,在II型点蚀隔膜,它是说,(HCO_3)TO- /(SO_4)至(2 - )的比例,所谓Matthon比小于1升的水。此外,二氧化硅在水中被认为是必不可少的moundless毛孔。虽然已知离子和溶解成分在水中,这样的铜蚀发挥了重要作用,这些离子和溶解的成分详细而系统地在铜蚀形式的影响很少有研究。在过去,作者执行人工淡水包括SiO_2,CL-,(SO_4)铜管浸渍试验以(2 - ),(HCO_3) - (2-),(HCO_3) - (HCO_3) - ,和再现装蚀底。此时,点蚀形态改变由于二氧化硅和阴离子浓度之间的差。此时,着眼于SiO_2,CL-,(SO_4)至(2 - ),在人工淡水包括这三方和二氧化硅,氯化物,硫酸盐,铜离子的影响的点蚀形式上的长期浸渍试验的

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