光学质量

摘要： 由于透明装甲兼具光学透过性与防弹道冲击性能,被广泛应用于军用飞机的风挡、装甲车辆的视窗等部位。本文开展了热压工艺参数对透明装甲层合结构形状稳定性和光学质量等性能影响的研究。研究结果表明:采用100-120°C进行热压,可保证层合板材具有较好光学性能和形状稳定性。如果热压温度过高,会造成聚碳酸酯层发生不可逆的变形,影响透明装甲层合件的光学性能,导致层合件的雾度升高。而热压压力对透明装甲层合件的性能整体影响较小。随着热压温度升高,由于较高的热压温度会造成聚碳酸脂层与相邻玻璃层之间产生较大应力,使得大尺寸透明装甲层合件的变形增大,但是光学畸变变化不大。说明该变形并未影响到光学畸变。

摘要： 白内障是指晶状体透明度降低或者颜色改变所导致的光学质量下降的退行性改变。各种原因如老化、遗传、局部营养障碍、免疫与代谢异常,以及外伤、中毒、辐射等,都能引起晶状体代谢紊乱,导致晶状体蛋白质变性而发生混浊,引起白内障。想要预防白内障,笔者建议可常吃以下几种食物:黑芝麻其不仅含有丰富的脂肪和蛋白质,还含有糖类、维生素A、维生素E、卵磷脂、钙、铁、铬等,具有补肝肾、滋五脏、益精血、润肠燥等保健效果,是滋补身体不错的食物。

摘要： 干眼是一种复杂的眼表疾病,主要由于泪膜不稳定或眼表微环境失衡所导致。临床上常用泪膜破裂时间、角膜荧光染色评分和泪液分泌试验等指标来评估干眼,这些指标具有较强的主观性,且侵入性的操作也会干扰患者眼表。近年来出现各种客观无创的眼表成像技术用于泪膜分析,如角膜地形图、泪膜干涉测量、泪膜蒸发速率测量、眼前节光学相干断层成像和像差测量等。这些检测手段有助于对干眼进行诊断和疗效评估。本文就眼表成像技术在干眼患者泪膜分析评价中的应用作一综述。

摘要： 美国研究人员开发了3D打印玻璃微结构的新方法(micro-CAL),突破原计算轴向光刻(CAL)技术界限,充分发挥其在玻璃结构中打印微尺度特征的能力从而使打印更精细。这种方法速度更快,可以生产出具有更高光学质量、设计灵活性和强度的物体。研究成果发表在《科学》杂志上。

摘要： 目的 探讨飞秒激光小切口角膜基质透镜取出术(SMILE)与飞秒激光辅助准分子激光角膜原位磨镶术(FS-LASIK)术后眼调制传递函数(MTF)的变化.方法 采用队列研究设计.收集2015年12月至2016年6月于天津市眼科医院屈光手术中心行SMILE和FS-LASIK的近视患者102例102眼,根据手术方式不同将其分为SMILE组53例53眼和FS-LASIK组49例49眼.采用Pentacam角膜地形图仪和WaveScan像差仪分别在术前和术后l、3、6个月检测角膜形态特征和像差,应用MTF进行计算和分析.比较2个组不同空间频率下不同时间点MTF值变化和术后6个月2个组去除低阶像差后MTF值变化,以及术后6个月SMILE组去除垂直彗差、水平彗差、球差后MTF值的变化.结果 SMILE组和FS-LASIK组术后1、3、6个月各空间频率的MTF值较术前均明显升高,差异均有统计学意义(均P＜0.05).SMILE组术后1、3、6个月各空间频率MTF值均高于FS-LASIK组.除55 c/d、60 c/d外,其余空间频率下2个组术后6个月MTF值比较差异均有统计学意义(均P＜0.05).术后6个月去除低阶像差后,各空间频率下SMILE组的MTF值均明显高于FS-LASIK组,差异均有统计学意义(均P＜0.05).术后6个月1 c/d空间频率下SMILE组去除球差、水平彗差后MTF值明显高于去除前MTF值,差异均有统计学意义(均P＜0.01);1 c/d、3 c/d空间频率下去除垂直彗差后MTF值明显高于去除前MTF值,差异均有统计学意义(均P＜0.05),其余空间频率去除单项高阶像差后与术后6个月MTF值比较差异均无统计学意义(均P＞0.05).结论 SMILE和FS-LASIK术后眼MTF均较术前升高,且SMILE术后MTF值较FS-LASIK术后MTF值略高.

摘要： 目的探讨飞秒激光小切口角膜基质透镜取出术(SMILE)与飞秒激光辅助准分子激光角膜原位磨镶术(FS-LASIK)术后眼调制传递函数(MTF)的变化。方法采用队列研究设计。收集2015年12月至2016年6月于天津市眼科医院屈光手术中心行SMILE和FS-LASIK的近视患者102例102眼,根据手术方式不同将其分为SMILE组53例53眼和FS-LASIK组49例49眼。采用Pentacam角膜地形图仪和WaveScan像差仪分别在术前和术后1、3、6个月检测角膜形态特征和像差,应用MTF进行计算和分析。比较2个组不同空间频率下不同时间点MTF值变化和术后6个月2个组去除低阶像差后MTF值变化,以及术后6个月SMILE组去除垂直彗差、水平彗差、球差后MTF值的变化。结果SMILE组和FS-LASIK组术后1、3、6个月各空间频率的MTF值较术前均明显升高,差异均有统计学意义(均P0.05)。结论SMILE和FS-LASIK术后眼MTF均较术前升高,且SMILE术后MTF值较FS-LASIK术后MTF值略高。

摘要： 目的 对比高度近视有晶状体眼后房型人工晶状体(ICL)V4c植入术后不同拱高对前房深度(ACD)、房角以及视觉质量的影响.方法 2017年7月～2018年7月,39例(76眼)高度近视眼行ICL V4c植入术,用CASIA SS-1000频域眼前节光学相干层析成像(AS-OCT)测量术前、术后中央ACD、小梁与虹膜夹角(TIA)及术后中央拱高;术后用双通道视觉质量分析系统(OQASTMⅡ)分别测量客观散射指数(OSI)、调制传递函数截止频率、斯特列尔比;术后1年按照中央拱高不同分组,组1:拱高750μm,对比3组间数据的差别.术后中央拱高采用One-way ANOVA处理,余手术前后数据采用重复测量的单因素方差分析及Bonferroni检验处理.结果 术后1年,各组间裸眼视力(UCVA)、等效球镜度(MRSE)、眼压、中央角膜内皮细胞密度(ECD)相比,差异均无统计学意义(P值均>0.05);各组ACD分别减小24.20％、30.46％、31.27％,组3与前2组相比,术后ACD减小值及百分比差异均有统计学意义(P值均0.05).结论 应用频域AS-OCT观察ICL V4c植入后的位置及ACD、房角相关结构有很好的临床前景.术后1年,中央拱高在750μm以内者,ACD变浅,房角变窄,各方位房角开放,对中央角膜ECD、眼压及术后视觉质量无明显影响.拱高>750μm者,甚至稍>1000μm的,也能保持大部分房角开放,眼压及角膜中央ECD正常;关于远期的影响,还需长期临床随访观察.

摘要： 在制备透明陶瓷时,广泛采用烧结助剂来提升陶瓷的光学质量.但烧结助剂的添加可能会恶化陶瓷的发光性能.本研究采用真空预烧结合热等静压烧结制备了0.25at％Pr:LuAG闪烁陶瓷,研究了微量SiO2烧结助剂对陶瓷光学及闪烁性能的影响.结果表明,添加少于200 ppm的微量SiO2(1 ppm表示添加量为1×10–6 g/g)能有效促进热等静压过程中气孔的排出,有效提升了Pr:LuAG陶瓷的光学性能.150 ppm SiO2添加的Pr:LuAG陶瓷在400 nm处的直线透过率约为77％.同时研究了预烧温度及时间对Pr:LuAG陶瓷光学性能的影响.在实现完全闭气孔结构时,进一步升高预烧温度或延长保温时间会降低热等静压过程中的致密化速率,不利于气孔的排出,从而降低了Pr:LuAG陶瓷的光学质量.此外,添加微量SiO2对Pr:LuAG陶瓷闪烁性能的影响较小.添加微量SiO2结合热等静压烧结是制备Pr掺杂石榴石闪烁陶瓷的有效途径.

摘要： 白内障是指晶状体透明度降低或者颜色改变所导致的光学质量下降的退行性改变,其主要症状是视力障碍,是主要的致盲眼症之一。目前,手术是唯一可以根治白内障的方法。但有部分患者在接受手术治疗后,会出现眼睛干涩等症状。对此,有什么应对方法呢?干眼当多种原因导致泪膜稳定性下降、泪液质和量异常,就会出现眼干涩、异物感、烧灼感等不适。白内障术后一周干眼发生率大约70%,一个月降为60%,大部分患者能够恢复。在白内障术后6个月,仍有1/3患者有持续的干眼症状。

摘要： 从上世纪70年代开始,我国科研人员就开始了铌酸锂晶体生长、缺陷、性能及其应用研究。南开大学是国内最早开展研究的单位之一,几十年来,围绕通讯、激光、国防等领域对高光学均匀性、高抗光损伤、高温度适用性光学级铌酸锂晶体的需求,将铌酸锂晶体的光学均匀性提高了近2个数量级,发明了掺镁铌酸锂晶体,将抗光损伤能力提高6个数量级以上,并实现了高光学质量近化学计量比铌酸锂晶体的实用化制备。

摘要： 通过化学改性提高了具有较高一阶分子超极化率(β)和热稳定性的新型有机非线性光学(NLO)发色团的可加工性能.将它们和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或无定型聚碳酸酯(APC)掺杂,制备出优质光学质量的电光聚合物薄膜,并成功制备出衰减全反射型(ATR)电光调制器原型器件.

摘要： 本文概括和比较了当今生长BBO晶体的各种方法,并从BBO晶体的物理特性和生长习性出发,分析了BBO晶体中包裹物的成因,讨论了提高BBO晶体的尺寸和光学质量所需解决的问题,并指出了解决的方向,为生长大截面高质量的BBO晶体打下基础.BBO晶体的原料的制备是首先要解决的问题.在各种生长方法中需要共同解决的问题是温度在长期中的短时间波动问题,更合适的助熔剂的探索和确定问题.对于各种方法中的具体要解决的关键问题也进行了阐述.

摘要： 生命体作为一个复杂而有序的系统,里面蕴藏的奥秘一直吸引着科学家的眼球,每一个重大的发现都离不开技术的革新,例如显微成像技术的发展让生命科学研究的道路越来越开阔.显微成像技术的发展要从显微镜的诞生开始讲起.在17世纪晚期,列文虎克发明了真正意义上的显微镜,然而当时生产的镜片比较粗糙,放大倍数也比较单一.到18世纪,卡尔·蔡司开始制造复合显微镜,由于缺少科学的指导,早期生产显微镜光学质量极不稳定.1860年年底,阿贝与蔡司合作,完成了光学系统的设计,奠定了显微成像的理论——阿贝成像原理.在此基础上,光学显微镜技术经历了快速的发展,为了提高图像的对比度,发展出了暗场、偏光、相差、DIC,以及利用荧光标记的共聚焦、双光子、TIRF等成像技术.

摘要： 采用化学方法腐蚀部分c-面蓝宝石衬底,在腐蚀区域形成一定的图案,利用LP-MOCVD在此经过表面处理的蓝宝石衬底上外延生长GaN薄膜.采用高分辨率双晶X射线衍射(DCXRD)、透射光谱分析GaN薄膜的晶体质量和光学质量.分析结果表明,GaN薄膜透射谱反映出的GaN质量与X射线双晶衍射测量的结果一致,即透射率越大,半高宽越小,结晶质量越好;对蓝宝石衬底进行前处理可以大大改善GaN薄膜的晶体质量和光学质量,其(0002)面及(10-12)面XRD半高宽(FWHM)分别降低到208.80arcsec及320.76arcsec。

摘要： 硼酸盐不仅结构丰富多样,而且具有较宽的透光范围,较高的光损伤阀值等优异的物理化学性能,一直以来都是材料科学领域的研究热点之一.在硼酸盐中已经发现了许多优秀的光学晶体,还可能存在许多未被发现的性能更好的功能材料.一个硼原子可以与三个或四个氧原子相结合,形成各种阴离子基团.例如β-BaB2O4(BBO)中的B3O6,LiB3O5(LBO)中的B3O7以及NdAl3(BO3)4(NAB)中的BO3基团.平面[BO3]3-基团极化率的各向异性预示着如果某些硼酸盐中[BO3]3-基团中的空间分布合适,则它有可能成为新的双折射材料.此外,硼酸盐有很好的热稳定性和低熔点,比较易于生长,且大多数硼酸盐晶体化学性质稳定,有较高的光学质量和损伤阈值.而TiO2(金红石)双折射大,折射率大,是一种用于光谱棱镜和偏振器件如光隔离器和分束器的很好的材料,与YVO4相比,TiO2晶体物理化学稳定性更好,高质量的TiO2单晶和抛光元件广泛用于光隔离器和特殊棱镜.但在目前技术条件下生长出大块的高质量的晶体还相当困难.为了得到更好的双折射晶体材料,想到将TiO2与硼酸盐相结合,取长补短,以寻找新的双折射材料.因此,本文研究了Li2O-TiO2-B2O三元系固相线下的相关系.

摘要： 光学角偏差是评价飞机风挡玻璃光学质量的重要的参数之一。本文介绍了飞泪L风挡玻璃光学角偏差自动测量系统的原理和装置。该系统采用钨灯和投射光学部分产生准直白光，用CCD探测器作为光斑位置传感器在汇聚光学系统的后焦面测量光斑位置的变化，从而得到光学角偏差。本文还对系统测量的不确定度进行了研究。

摘要： 介绍了复制轻质金属反射镜的主要优缺点、应用前景、制备技术、光学质量,指标的表述,以及确保质量的措施.

摘要： 本发明涉及一种用于借助于线性光学传感器在纱线质量的光学检测器中监测纱线质量的方法，线性光学传感器包括一行或两行个体矩形形状的光学元件，光学元件在其输出端处提供与光学元件的辐照程度成比例的模拟信号。在质量的光学检测器的所有操作模式下被辐照并且未被纱线遮蔽的所有个体光学元件的模拟信号针对每个个体光学元件被感测并且根据预定义的标准被存储在电子存储器中作为个体光学元件的初始值、运行值或工作值（Fc1、Fc2、Fc3），这些值随后出于评估传感器的正确功能和消除制造和运行缺陷和故障的目的而彼此比较。本发明还涉及一种用于执行上述方法的光学检测器。

摘要： 一种用于尤其是精密光学球面透镜表面的研磨和/或抛光的装置(10)包括机器框架(12)、用于工具(WZ)围绕工具旋转轴线(A)的旋转驱动的工具主轴(14)，以及用于工件(L)围绕工件旋转轴线(C)的旋转驱动的工件主轴(16)。工具主轴和工件主轴能够在垂直于彼此延伸的第一和第二方向(x、z)上进行轴向相对调节，且另外可相对于彼此在枢转平面中围绕枢轴线(B)枢转，其中这些移动全部由所述工具主轴(X、Z和B轴)执行。此外，提供用于交叉研磨调节的设备(18)，其包括：调节机构(20)，借助所述调节机构(20)所述工件主轴可在垂直于所述第一和第二方向延伸的第三方向上定位使得工具和工件的旋转轴安置所述枢转平面中；以及夹持机构(22)，所述夹持机构(22)可独立于所述调节机构激活并起到将所述工件主轴(一旦定位)相对于所述机器框架固定的用途。

摘要： 本发明公开了一种光学测量系统及提高大口径光学测量系统成像质量的方法。大口径光学测量系统由望远镜子系统和转台控制子系统组成。本发明中，为大口径光学测量系统增加了镜筒遮光罩子系统，并预先将镜筒遮光罩子系统设置于望远镜子系统外壁并半包裹，并沿镜筒视轴方向具有滑移性，并以镜筒视轴为轴心转动；根据实时获取的镜筒视轴方位角、镜筒视轴俯仰角、杂散光光源相对转台控制子系统的方位角、杂散光光源相对转台控制子系统的俯仰角以及镜筒直径，计算镜筒遮光罩子系统的调节参数；按照计算得到的调节参数驱动镜筒遮光罩子系统遮挡杂散光光源辐射至镜筒的杂散光。应用本发明，可以提高成像质量。

摘要： 本发明涉及一种用于借助于线性光学传感器在纱线质量的光学检测器中监测纱线质量的方法，线性光学传感器包括一行或两行个体矩形形状的光学元件，光学元件在其输出端处提供与光学元件的辐照程度成比例的模拟信号。在质量的光学检测器的所有操作模式下被辐照并且未被纱线遮蔽的所有个体光学元件的模拟信号针对每个个体光学元件被感测并且根据预定义的标准被存储在电子存储器中作为个体光学元件的初始值、运行值或工作值（Fc1、Fc2、Fc3），这些值随后出于评估传感器的正确功能和消除制造和运行缺陷和故障的目的而彼此比较。本发明还涉及一种用于执行上述方法的光学检测器。

摘要： 一种用于尤其是精密光学球面透镜表面的研磨和/或抛光的装置(10)包括机器框架(12)、用于工具(WZ)围绕工具旋转轴线(A)的旋转驱动的工具主轴(14)，以及用于工件(L)围绕工件旋转轴线(C)的旋转驱动的工件主轴(16)。工具主轴和工件主轴能够在垂直于彼此延伸的第一和第二方向(x、z)上进行轴向相对调节，且另外可相对于彼此在枢转平面中围绕枢轴线(B)枢转，其中这些移动全部由所述工具主轴(X、Z和B轴)执行。此外，提供用于交叉研磨调节的设备(18)，其包括：调节机构(20)，借助所述调节机构(20)所述工件主轴可在垂直于所述第一和第二方向延伸的第三方向上定位使得工具和工件的旋转轴安置所述枢转平面中；以及夹持机构(22)，所述夹持机构(22)可独立于所述调节机构激活并起到将所述工件主轴(一旦定位)相对于所述机器框架固定的用途。

摘要： 本发明公开了一种光学测量系统及提高大口径光学测量系统成像质量的方法。大口径光学测量系统由望远镜子系统和转台控制子系统组成。本发明中，为大口径光学测量系统增加了镜筒遮光罩子系统，并预先将镜筒遮光罩子系统设置于望远镜子系统外壁并半包裹，并沿镜筒视轴方向具有滑移性，并以镜筒视轴为轴心转动；根据实时获取的镜筒视轴方位角、镜筒视轴俯仰角、杂散光光源相对转台控制子系统的方位角、杂散光光源相对转台控制子系统的俯仰角以及镜筒直径，计算镜筒遮光罩子系统的调节参数；按照计算得到的调节参数驱动镜筒遮光罩子系统遮挡杂散光光源辐射至镜筒的杂散光。应用本发明，可以提高成像质量。

摘要： 本实用新型公开一种光学芯片组抛光质量检查装置，包括：数码光学显微镜，用于对所述光学芯片组的研磨面抛光质量进行观察与成像；反光镜，用于反射光线，使光线入射至所述光学芯片组研磨面上；芯片固定夹具，所述芯片固定夹具包括固定部，所述固定部上形成有至少一条用于固定所述光学芯片组的凹槽，所述光学芯片组插入所述凹槽中时，所述光学芯片组的第一研磨面或第二研磨面呈水平状态。本实用新型还提供一种光学芯片组，所述光学芯片组抛光质量检查装置用于检查所述光学芯片组的所述研磨面抛光质量。本实用新型提供的光学芯片组检测装置能够实现成条检验芯片，并且能直观的检查到光学芯片组研磨面的抛光质量和光波导。

摘要： 本发明公布了一种提高光学质量的光学探头，包括连接件、探头基座、柔性电路板、光学组件、MEMS微镜、探头端盖和窗片，光学组件包括光纤和透镜，光纤端面和透镜两端的端面三个光学端面涂履增透膜或者进行端面倒角。本发明设计的光学探头从光路源头着手，依次对光学探头的光纤、透镜、MEMS微镜和窗片的光学界面进行了设计，且探头基座内表面与MEMS微镜四周框架均涂履有能够吸收红外光的膜层材料，从而有利于光学探头中光学质量的提高；减少了通过各光学界面光的损失；并能减少甚至消除各光学界面对系统产生干扰的反射光信号。另外探头基座与探头端盖的机械结构能够保证光路的准直和光学探头的简易组装。

摘要： 本发明公布了一种提高光学质量的光学探头，包括连接件、探头基座、柔性电路板、光学组件、MEMS微镜、探头端盖和窗片，光学组件包括光纤和透镜，光纤端面和透镜两端的端面三个光学端面涂履增透膜或者进行端面倒角。本发明设计的光学探头从光路源头着手，依次对光学探头的光纤、透镜、MEMS微镜和窗片的光学界面进行了设计，且探头基座内表面与MEMS微镜四周框架均涂履有能够吸收红外光的膜层材料，从而有利于光学探头中光学质量的提高；减少了通过各光学界面光的损失；并能减少甚至消除各光学界面对系统产生干扰的反射光信号。另外探头基座与探头端盖的机械结构能够保证光路的准直和光学探头的简易组装。

摘要： 本实用新型公布了一种提高光学质量的光学探头，包括连接件、探头基座、柔性电路板、光学组件、MEMS微镜、探头端盖和窗片，光学组件包括光纤和透镜，光纤端面和透镜两端的端面三个光学端面涂履增透膜或者进行端面倒角。本实用新型设计的光学探头从光路源头着手，依次对光学探头的光纤、透镜、MEMS微镜和窗片的光学界面进行了设计，且探头基座内表面与MEMS微镜四周框架均涂履有能够吸收红外光的膜层材料，从而有利于光学探头中光学质量的提高；减少了通过各光学界面光的损失；并能减少甚至消除各光学界面对系统产生干扰的反射光信号。另外探头基座与探头端盖的机械结构能够保证光路的准直和光学探头的简易组装。