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Conductive GaAs single crystal and the conductive GaAs single crystal substrates and their fabrication method .

机译:导电GaAs单晶和导电GaAs单晶衬底及其制造方法。

摘要

An electrically conductive GaAs crystal has an atomic concentration of Si more than 1 x 10SP17/SP cmSP-3/SP, wherein density of precipitates having sizes of at least 30 nm contained in the crystal is at most 400 cmSP-2/SP. In this case, it is preferable that the conductive GaAs crystal has a dislocation density of at most 2 x 10SP2/SP cmSP-2/SP or at least 1 x 10SP3/SP cmSP-2/SP.
机译:导电GaAs晶体的Si原子浓度大于1 x 10 17 cm -3 ,其中晶体中所含尺寸至少为30 nm的沉淀物的密度最大为400 cm -2 。在这种情况下,优选的是,导电GaAs晶体的位错密度至多为2×10 2 cm -2 或至少为1×10 3 cm -2

著录项

  • 公开/公告号JP5664239B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-02-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友電気工業株式会社;

    申请/专利号JP20100521233

  • 发明设计人 櫻田 隆;川瀬 智博;

    申请日2010-01-20

  • 分类号C30B29/42;C30B33/02;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:27:51

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