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Hollow silica particles, dispersions of hollow silica particles, and films

机译:中空二氧化硅颗粒,中空二氧化硅颗粒的分散体和薄膜

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide hollow silica particles which are excellent in film forming property and can give a film having a low reflectance. SOLUTION: The hollow silica particles have one or more hollow portions inside the particles, the number average particle diameter is 100 nm or less, the residual amount of silanol groups is 35 mol% or more, and the content ratio of the surfactant is 20 weight. % Or less, hollow silica having a change rate of 18% or less in the dispersed state when it is ultrasonically dispersed in methyl ethyl ketone at a concentration of 1% by weight and then allowed to stand for 15 minutes at a temperature of 25 ° C. Provide particles. [Selection diagram] None
机译:解决的问题:提供中空的二氧化硅颗粒,其具有优异的成膜性并且可以得到具有低反射率的膜。 SOLUTION:中空二氧化硅颗粒内部有一个或多个中空部分,数均粒径为100 nm以下,硅烷醇基的残留量为35 mol%以上,表面活性剂的含量为20重量% 。当以1重量%的浓度将其超声分散在甲乙酮中然后在25°C的温度下静置15分钟时,在分散状态下变化率为18%或更低的空心二氧化硅C.提供颗粒。 [选择图]无

著录项

  • 公开/公告号JP2020164345A

    专利类型

  • 公开/公告日2020-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本ゼオン株式会社;

    申请/专利号JP20190063887

  • 发明设计人 石葉 雅俊;伊賀 隆志;

    申请日2019-03-28

  • 分类号C01B33/18;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 11:35:54

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